Surface changes induced by Argon plasma treatment of silicon dioxide microparticles

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F23%3A00583494" target="_blank" >RIV/68378271:_____/23:00583494 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Surface changes induced by Argon plasma treatment of silicon dioxide microparticles

Popis výsledku v původním jazyce

Plasma treatment is a versatile technique for surface treatment at a relatively low temperature. Silicon dioxide microparticles (average size about 1 micrometer) have been treated in an argon plasma using an inductive coupled plasma (ICP) reactor. The modified SiO2 powder was pressed into pellets and characterized by optical absorptance and photoluminescence spectroscopy. Argon bombardment at low pressure increased optical absorption of SiO2 powder as well as blue photoluminescence indicating an increase in defect states on the surface of the microparticles.

Název v anglickém jazyce

Surface changes induced by Argon plasma treatment of silicon dioxide microparticles

Popis výsledku anglicky

Plasma treatment is a versatile technique for surface treatment at a relatively low temperature. Silicon dioxide microparticles (average size about 1 micrometer) have been treated in an argon plasma using an inductive coupled plasma (ICP) reactor. The modified SiO2 powder was pressed into pellets and characterized by optical absorptance and photoluminescence spectroscopy. Argon bombardment at low pressure increased optical absorption of SiO2 powder as well as blue photoluminescence indicating an increase in defect states on the surface of the microparticles.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

—

OECD FORD obor

10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2023

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Proceedings of ADEPT - ADEPT 2023

ISBN

978-80-554-1977-0

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

47-50

Název nakladatele

University of Žilina

Místo vydání

Žilina

Místo konání akce

Podbanské

Datum konání akce

12. 6. 2023

Typ akce podle státní příslušnosti

EUR - Evropská akce

Kód UT WoS článku

—