Způsob pokrytí povrchu optického elementu vyrobeného z iontového krystalu souvislou ochrannou vrstvou, souvislá vrstva a její použití

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F24%3A00598187" target="_blank" >RIV/68378271:_____/24:00598187 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="https://isdv.upv.gov.cz/doc/FullFiles/Patents/FullDocuments/310/310137.pdf" target="_blank" >https://isdv.upv.gov.cz/doc/FullFiles/Patents/FullDocuments/310/310137.pdf</a>

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Způsob pokrytí povrchu optického elementu vyrobeného z iontového krystalu souvislou ochrannou vrstvou, souvislá vrstva a její použití

Popis výsledku v původním jazyce

Předkládaný vynález se týká způsobu pokrytí optického elementu z iontového krystalu ochrannou vrstvou amorfního kompozitu na bázi amorfního křemíku a uhlíku s obsahem kyslíku, fluoru a vodíku. Tato ochranná vrstva má s výhodou tloušťku do 200 nm a slouží jako ochrana proti vzdušné vlhkosti, zejména v infračervené optické spektroskopii. Způsob využívá plazmový reaktor s kapacitně vázanou plazmou, přičemž proces probíhá ve vakuové komoře s elektrodami. Optický element se upevní na uzemněnou elektrodu, plazmový reaktor se zahřívá na provozní teplotu do 100 °C, odčerpávají se zbytkové plyny na tlak nižší než 1 mPa a vhánějí se procesní plyny. Poté se nastaví průtoky plynů, připojí se vysokofrekvenční napětí a zapálí se doutnavý výboj, hustota vysokofrekvenčního příkonu se nastaví do 20 W/dm2. Poté se na optický element nanáší souvislá ochranná vrstva. Podstata způsobu spočívá v dodržování správných teplotních podmínek, koncentrace procesních plynů a frekvence napětí.

Název v anglickém jazyce

A method of covering the surface of an optical element made of an ionic crystal with a continuous protective layer, the continuous layer and its application

Popis výsledku anglicky

The invention relates to a method of coating an optical element of an ionic crystal with a protective layer of an amorphous silicon-carbon composite containing oxygen, fluorine and hydrogen. This protective layer preferably has a thickness of up to 200 nm and serves as a protection against atmospheric moisture, particularly in infrared optical spectroscopy. The method uses a capacitively coupled plasma reactor, with the process taking place in a vacuum chamber with electrodes. The optical element is mounted on a grounded electrode, the plasma reactor is heated to an operating temperature of up to 100 °C, residual gases are drawn off to a pressure of less than 1 mPa and process gases are injected. The gas flow rates are then adjusted, the high frequency voltage is applied and the glow discharge is ignited, the high frequency power density is set to 20 W/dm2. A continuous protective layer is then applied to the optical element. The essence of the method lies in observing the correct temperature conditions, process gas concentration and voltage frequency.

Druh

P - Patent

CEP obor

—

OECD FORD obor

10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Projekt

<a href="/cs/project/TP01010035" target="_blank" >TP01010035: Aplikovaný fyzikální výzkum pro nové technologie</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2024

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Číslo patentu nebo vzoru

310137

Vydavatel

CZ001 -

Název vydavatele

Industrial Property Office

Místo vydání

Prague

Stát vydání

CZ - Česká republika

Datum přijetí

8. 8. 2024

Název vlastníka

Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.

Způsob využití

A - Výsledek využívá pouze poskytovatel

Druh možnosti využití

A - K využití výsledku jiným subjektem je vždy nutné nabytí licence