Infrared phonons in monoclinic Hf0.5Zr0.5O2 thin films
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F25%3A00642992" target="_blank" >RIV/68378271:_____/25:00642992 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://hdl.handle.net/11104/0372838" target="_blank" >https://hdl.handle.net/11104/0372838</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1063/5.0297535" target="_blank" >10.1063/5.0297535</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Infrared phonons in monoclinic Hf0.5Zr0.5O2 thin films
Popis výsledku v původním jazyce
Infrared reflectance spectra of monoclinic Hf0.5Zr0.5O2 (HZO) films with thickness in the range of 10–90 nm deposited on different cuts of Al2O3 and yttria-stabilized zirconia (YSZ) substrates were measured in the frequency region 30–4000 cm-1. Several phonons belonging to HZO were observed even for the 10 nm films. X-ray diffraction measurements were used to determine the crystal structure of the films and their orientation with respect to the substrates. The phonon spectra of HZO films grown on the anisotropic (1-102) R-cut Al2O3 substrates exhibit strong anisotropy. Comparing them with the spectra of the films on isotropic YSZ substrates, it allows us to assign the symmetry and polarization of the phonons in HZO films. We also measured the IR reflectance of HfO2, ZrO2 and HZO ceramics and compared their phonon parameters with those of the corresponding thin films.
Název v anglickém jazyce
Infrared phonons in monoclinic Hf0.5Zr0.5O2 thin films
Popis výsledku anglicky
Infrared reflectance spectra of monoclinic Hf0.5Zr0.5O2 (HZO) films with thickness in the range of 10–90 nm deposited on different cuts of Al2O3 and yttria-stabilized zirconia (YSZ) substrates were measured in the frequency region 30–4000 cm-1. Several phonons belonging to HZO were observed even for the 10 nm films. X-ray diffraction measurements were used to determine the crystal structure of the films and their orientation with respect to the substrates. The phonon spectra of HZO films grown on the anisotropic (1-102) R-cut Al2O3 substrates exhibit strong anisotropy. Comparing them with the spectra of the films on isotropic YSZ substrates, it allows us to assign the symmetry and polarization of the phonons in HZO films. We also measured the IR reflectance of HfO2, ZrO2 and HZO ceramics and compared their phonon parameters with those of the corresponding thin films.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2025
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of Applied Physics
ISSN
0021-8979
e-ISSN
1089-7550
Svazek periodika
138
Číslo periodika v rámci svazku
21
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
11
Strana od-do
214101
Kód UT WoS článku
001631585200001
EID výsledku v databázi Scopus
2-s2.0-105023955163