Preparation and analysis of multilayer metal- dielectric systems by PVD methods
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F25%3A00644472" target="_blank" >RIV/68378271:_____/25:00644472 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Preparation and analysis of multilayer metal- dielectric systems by PVD methods
Popis výsledku v původním jazyce
To develop the use of hydrogen technologies in the energy sector, it is necessary to ensure their safety by developing high-quality hydrogen sensors. In this work, two principles of optical sensors exploiting metal-dielectric interface phenomena in multilayer thin film structures are investigated, specifically the combination of a thin silver layer with a very thin palladium layer for excitation of the surface plasmon-polariton and the combination of silver, a dielectric intermediate layer and a very thin palladium layer for excitation of the waveguide mode. The samples were prepared by Magnetron Sputtering and Ionized Jet Deposition methods. The analysis of the samples was carried out using ellipsometry, Attenuated Total Reflection method, atomic force microscopy and computer simulations.
Název v anglickém jazyce
Preparation and analysis of multilayer metal- dielectric systems by PVD methods
Popis výsledku anglicky
To develop the use of hydrogen technologies in the energy sector, it is necessary to ensure their safety by developing high-quality hydrogen sensors. In this work, two principles of optical sensors exploiting metal-dielectric interface phenomena in multilayer thin film structures are investigated, specifically the combination of a thin silver layer with a very thin palladium layer for excitation of the surface plasmon-polariton and the combination of silver, a dielectric intermediate layer and a very thin palladium layer for excitation of the waveguide mode. The samples were prepared by Magnetron Sputtering and Ionized Jet Deposition methods. The analysis of the samples was carried out using ellipsometry, Attenuated Total Reflection method, atomic force microscopy and computer simulations.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
—
OECD FORD obor
10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2025
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Sborník příspěvků 14. studentské vědecké konference fyziky pevných látek, fotoniky a materiálů
ISBN
978-80-01-07499-2
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
42-47
Název nakladatele
České vysoké učení technické v Praze
Místo vydání
Praha
Místo konání akce
Byňov
Datum konání akce
23. 9. 2025
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—