The Nonconductive Sputtered Thin Film Layer
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F19%3A00342614" target="_blank" >RIV/68407700:21230/19:00342614 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://147.228.94.30/images/PDF/Rocnik2019/Cislo2_2019/r13c2c1.pdf" target="_blank" >http://147.228.94.30/images/PDF/Rocnik2019/Cislo2_2019/r13c2c1.pdf</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
The Nonconductive Sputtered Thin Film Layer
Popis výsledku v původním jazyce
The work is focused on topic of dielectrics layers prepared by thin film layer technology, specifically by sputtering. Set of samples of thin film capacitors was prepared. Samples differ by different conditions of preparation of dielectric layer. Dielectric layers were deposited by sputtering of Al2O3on glass substrate. The measured parameters were the electrical capacity and thickness of the dielectric layer. Thickness was obtained with help of device using the stylus method. The main evaluated parameters are the capacity and thickness of thin film capacitors in dependence on the deposition process conditions–plasma power and deposition time.
Název v anglickém jazyce
The Nonconductive Sputtered Thin Film Layer
Popis výsledku anglicky
The work is focused on topic of dielectrics layers prepared by thin film layer technology, specifically by sputtering. Set of samples of thin film capacitors was prepared. Samples differ by different conditions of preparation of dielectric layer. Dielectric layers were deposited by sputtering of Al2O3on glass substrate. The measured parameters were the electrical capacity and thickness of the dielectric layer. Thickness was obtained with help of device using the stylus method. The main evaluated parameters are the capacity and thickness of thin film capacitors in dependence on the deposition process conditions–plasma power and deposition time.
Klasifikace
Druh
J<sub>ost</sub> - Ostatní články v recenzovaných periodicích
CEP obor
—
OECD FORD obor
20201 - Electrical and electronic engineering
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
ElectroScope
ISSN
1802-4564
e-ISSN
1802-4564
Svazek periodika
2019
Číslo periodika v rámci svazku
2
Stát vydavatele periodika
CZ - Česká republika
Počet stran výsledku
3
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—