Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Influence of Change of Imaging Conditions on Accuracy of Optical Measurement Systems

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21110%2F03%3A01088350" target="_blank" >RIV/68407700:21110/03:01088350 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Influence of Change of Imaging Conditions on Accuracy of Optical Measurement Systems

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The work analyses an influence of the change of imaging conditions on the accuracy of optical and optoelectronic measurement systems, which are used in various industrial branches, e.g. in mechanical engineering, optical industry, building industry, etc.It is shown that in case of the change of position of the measured object the imaging properties of the used optical measurement instrument are changed. This position change affects the image quality. If some optical measurement system is aberration free for a specified position of the measured object, then for other object positions the optical system has aberrations. The consequence of this effect is the change of the measurement accuracy for the specific optical system. The described effect is not removable on principle and it is necessary to take account to it in high accuracy measurements

  • Název v anglickém jazyce

    Influence of Change of Imaging Conditions on Accuracy of Optical Measurement Systems

  • Popis výsledku anglicky

    The work analyses an influence of the change of imaging conditions on the accuracy of optical and optoelectronic measurement systems, which are used in various industrial branches, e.g. in mechanical engineering, optical industry, building industry, etc.It is shown that in case of the change of position of the measured object the imaging properties of the used optical measurement instrument are changed. This position change affects the image quality. If some optical measurement system is aberration free for a specified position of the measured object, then for other object positions the optical system has aberrations. The consequence of this effect is the change of the measurement accuracy for the specific optical system. The described effect is not removable on principle and it is necessary to take account to it in high accuracy measurements

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    BH - Optika, masery a lasery

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GA103%2F02%2F0357" target="_blank" >GA103/02/0357: Moderní optoelektronické metody topografie ploch</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2003

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    SPIE Proceedings, Vol. 5144

  • ISBN

    0-8194-5014-6

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    801-805

  • Název nakladatele

    SPIE

  • Místo vydání

    Washington

  • Místo konání akce

    Munich

  • Datum konání akce

    23. 6. 2003

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku