Analýza aberací v optických měřících systémech

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21110%2F04%3A01099271" target="_blank" >RIV/68407700:21110/04:01099271 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Aberration Analysis of Elements in Optical Measurement Systems
Popis výsledku v původním jazyce
The work is focused on a theoretical analysis of aberrations of various elements in optical measurement systems in industrial practice. It is analysed an influence of the change of imaging conditions on the accuracy of various optical and optoelectronicmeasurement systems, which are used in various industrial branches, e.g. in mechanical engineering, optical industry, building industry, etc
Název v anglickém jazyce
Aberration Analysis of Elements in Optical Measurement Systems
Popis výsledku anglicky
The work is focused on a theoretical analysis of aberrations of various elements in optical measurement systems in industrial practice. It is analysed an influence of the change of imaging conditions on the accuracy of various optical and optoelectronicmeasurement systems, which are used in various industrial branches, e.g. in mechanical engineering, optical industry, building industry, etc

Projekt
<a href="/cs/project/GA103%2F02%2F0357" target="_blank" >GA103/02/0357: Moderní optoelektronické metody topografie ploch</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění
2004
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)