Deposition of TiO2 Thin Films Using Atmospheric Dielectric Barrier Discharge

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F08%3A00151397" target="_blank" >RIV/68407700:21230/08:00151397 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Deposition of TiO2 Thin Films Using Atmospheric Dielectric Barrier Discharge
Popis výsledku v původním jazyce
Influence of precursor (titanium tetraisopropoxide (TTIP)) temperature, precursor and gas flow rates on the surface properties of TiO2 thin films deposited by atmospheric dielectric barrier discharge (ADBD) chemical vapour deposition (CVD) were investigated. Surface morphology of the thin TiO2 films deposited on glass substrates was studied by the atomic force microscopy (AFM) and water contact angle (CA) measurement.
Název v anglickém jazyce
Deposition of TiO2 Thin Films Using Atmospheric Dielectric Barrier Discharge
Popis výsledku anglicky
Influence of precursor (titanium tetraisopropoxide (TTIP)) temperature, precursor and gas flow rates on the surface properties of TiO2 thin films deposited by atmospheric dielectric barrier discharge (ADBD) chemical vapour deposition (CVD) were investigated. Surface morphology of the thin TiO2 films deposited on glass substrates was studied by the atomic force microscopy (AFM) and water contact angle (CA) measurement.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—

Rok uplatnění
2008
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika
Problems of Atomic Science and Technology. Series: Plasma Physics
ISSN
1562-6016
e-ISSN
—
Svazek periodika
48
Číslo periodika v rámci svazku
6
Stát vydavatele periodika
UA - Ukrajina
Počet stran výsledku
3
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
000263031100056
EID výsledku v databázi Scopus
—

Podobné výsledky(10)