Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

ELECTRICAL AND AFM STUDY OF DIFFERENT TYPES OF GRAPHENE

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F11%3A00187518" target="_blank" >RIV/68407700:21230/11:00187518 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://www.nanocon.cz" target="_blank" >http://www.nanocon.cz</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    ELECTRICAL AND AFM STUDY OF DIFFERENT TYPES OF GRAPHENE

  • Popis výsledku v původním jazyce

    We present our results of the atomic force microscope (AFM) surface analysis of graphene layers prepared by different methods. We compared surfaces of exfoliated graphene, graphene grown CVD on copper foil and graphene prepared by high temperature annealing of SiC. The CVD grown graphene layers were characterized electrically. We measured the sheet resistance of the layers in the presence of gate voltage applied on the bottom electrode realized by the conducting silicon substrate isolated by the siliconoxide layer.

  • Název v anglickém jazyce

    ELECTRICAL AND AFM STUDY OF DIFFERENT TYPES OF GRAPHENE

  • Popis výsledku anglicky

    We present our results of the atomic force microscope (AFM) surface analysis of graphene layers prepared by different methods. We compared surfaces of exfoliated graphene, graphene grown CVD on copper foil and graphene prepared by high temperature annealing of SiC. The CVD grown graphene layers were characterized electrically. We measured the sheet resistance of the layers in the presence of gate voltage applied on the bottom electrode realized by the conducting silicon substrate isolated by the siliconoxide layer.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/GAP108%2F11%2F0894" target="_blank" >GAP108/11/0894: Růst a zpracování gafenových vrstev na karbidu křemíku</a><br>

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2011

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    NANOCON 2011 Conference Proceedings

  • ISBN

    978-80-87294-23-9

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    481-485

  • Název nakladatele

    TANGER, spol.s r.o.

  • Místo vydání

    Ostrava

  • Místo konání akce

    Brno

  • Datum konání akce

    21. 9. 2011

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    EUR - Evropská akce

  • Kód UT WoS článku