Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Effects of Cu on the microstructural and mechanical properties of sputter deposited Ni-Ti thin films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21230%2F13%3A00210116" target="_blank" >RIV/68407700:21230/13:00210116 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2013.06.040" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2013.06.040</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2013.06.040" target="_blank" >10.1016/j.surfcoat.2013.06.040</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Effects of Cu on the microstructural and mechanical properties of sputter deposited Ni-Ti thin films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The microstructure of sputter deposited Ti-rich Ni-Ti thin films doped with Cu in the range 0?20.4 at.% and annealed for 1 h at 500 and 600 °C has been investigated and correlated with the mechanical properties of the films measured by depth-sensing nanoindentation. X-ray diffraction analysis showed the microstructural evolution of Ni-Ti thin films when doped with Cu and annealed at different temperatures. Heat treatments promoted the nucleation and growth of Ti2Ni precipitates in Ti-rich Ni-Ti thin films, which affected the stability of austenitic and martensitic phases at ambient temperature. Doping with Cu caused the formation of Ti(Ni, Cu)2 plate precipitates, which became more finely and densely dispersed in the grains with increasing Cu content.TEM analysis showed a columnar grain morphology extended through the whole films thickness, while with increasing Cu content a noticeable lateral grain refinement was induced by segregation of a (Ni, Cu)-rich phase to grain boundaries. Th

  • Název v anglickém jazyce

    Effects of Cu on the microstructural and mechanical properties of sputter deposited Ni-Ti thin films

  • Popis výsledku anglicky

    The microstructure of sputter deposited Ti-rich Ni-Ti thin films doped with Cu in the range 0?20.4 at.% and annealed for 1 h at 500 and 600 °C has been investigated and correlated with the mechanical properties of the films measured by depth-sensing nanoindentation. X-ray diffraction analysis showed the microstructural evolution of Ni-Ti thin films when doped with Cu and annealed at different temperatures. Heat treatments promoted the nucleation and growth of Ti2Ni precipitates in Ti-rich Ni-Ti thin films, which affected the stability of austenitic and martensitic phases at ambient temperature. Doping with Cu caused the formation of Ti(Ni, Cu)2 plate precipitates, which became more finely and densely dispersed in the grains with increasing Cu content.TEM analysis showed a columnar grain morphology extended through the whole films thickness, while with increasing Cu content a noticeable lateral grain refinement was induced by segregation of a (Ni, Cu)-rich phase to grain boundaries. Th

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    JI - Kompositní materiály

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2013

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Surface and Coatings Technology

  • ISSN

    0257-8972

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    237

  • Číslo periodika v rámci svazku

    December

  • Stát vydavatele periodika

    NL - Nizozemsko

  • Počet stran výsledku

    8

  • Strana od-do

    261-268

  • Kód UT WoS článku

    000330488000037

  • EID výsledku v databázi Scopus