EUV záření z laserové plasmy fokusované multifóliovou optikou
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21340%2F06%3A04128227" target="_blank" >RIV/68407700:21340/06:04128227 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
EUV radiation from gas-puff laser plasma focused by
Popis výsledku v původním jazyce
We present the recent progress in high intensity micro focused EUV beam generation. Ellipsoidal thin glass foils were used in Multi–foil optical systems for focusing radiation in 50 eV to 150 eV energy band from gas–puff laser plasma source.Multifoil optic (MFO) condenser was designed and tested for applications with Xe laser plasma gas–puff source. High intensity EUV beam focal spot was recorded, analyzed and compared with theoretical results from computer ray–tracing. Direct EUV lithography using radiation induced decomposition and ablation of TEFLON was studied.
Název v anglickém jazyce
EUV radiation from gas-puff laser plasma focused by
Popis výsledku anglicky
We present the recent progress in high intensity micro focused EUV beam generation. Ellipsoidal thin glass foils were used in Multi–foil optical systems for focusing radiation in 50 eV to 150 eV energy band from gas–puff laser plasma source.Multifoil optic (MFO) condenser was designed and tested for applications with Xe laser plasma gas–puff source. High intensity EUV beam focal spot was recorded, analyzed and compared with theoretical results from computer ray–tracing. Direct EUV lithography using radiation induced decomposition and ablation of TEFLON was studied.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2006
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Advances in X-Ray/EUV Optics, Components, and Applications
ISBN
0-8194-6396-5
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
9
Strana od-do
"631705-1"-"631705-9"
Název nakladatele
SPIE
Místo vydání
Bellingham
Místo konání akce
San Diego
Datum konání akce
13. 8. 2006
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
—