Recent advancements in technology of compact laser plasma EUV sources
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68407700%3A21340%2F10%3A00369483" target="_blank" >RIV/68407700:21340/10:00369483 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://doi.org/10.1117/12.841715" target="_blank" >https://doi.org/10.1117/12.841715</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1117/12.841715" target="_blank" >10.1117/12.841715</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Recent advancements in technology of compact laser plasma EUV sources
Popis výsledku v původním jazyce
The recent advancements in technology of compact laser plasma EUV sources based on a gas puff target are presented in the paper. The sources have been developed for application in processing materials using EUV radiation in the wavelength range from about 5 nm to about 50 nm that is efficiently produced in result of irradiation a double-stream gas puff target with high-intensity laser pulses from a Nd:YAG laser (0.8 J/4 ns/10 Hz). The sources can be equipped with two various grazing incidence optical systems to focus EUV radiation: an axisymmetrical ellipsoidal mirror or a multifoil mirror system of the "lobster eye" type. A new design of the laser plasma EUV source dedicated for micro- and nanoprocessing polymers and modification of polymer surfaces is presented for the first time.
Název v anglickém jazyce
Recent advancements in technology of compact laser plasma EUV sources
Popis výsledku anglicky
The recent advancements in technology of compact laser plasma EUV sources based on a gas puff target are presented in the paper. The sources have been developed for application in processing materials using EUV radiation in the wavelength range from about 5 nm to about 50 nm that is efficiently produced in result of irradiation a double-stream gas puff target with high-intensity laser pulses from a Nd:YAG laser (0.8 J/4 ns/10 Hz). The sources can be equipped with two various grazing incidence optical systems to focus EUV radiation: an axisymmetrical ellipsoidal mirror or a multifoil mirror system of the "lobster eye" type. A new design of the laser plasma EUV source dedicated for micro- and nanoprocessing polymers and modification of polymer surfaces is presented for the first time.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
—
OECD FORD obor
10306 - Optics (including laser optics and quantum optics)
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2010
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
Proc. SPIE 7584, Laser Applications in Microelectronic and Optoelectronic Manufacturing XV
ISBN
978-0-8194-7980-8
ISSN
0277-786X
e-ISSN
1996-756X
Počet stran výsledku
8
Strana od-do
—
Název nakladatele
SPIE
Místo vydání
Bellingham (stát Washington)
Místo konání akce
San Francisco, CA
Datum konání akce
23. 1. 2010
Typ akce podle státní příslušnosti
WRD - Celosvětová akce
Kód UT WoS článku
000285578500013