Treatment and Stability of Sodium Hyaluronate Films in Low Temperature Inductively Coupled Ammonia Plasma
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F70883521%3A28110%2F12%3A43867982" target="_blank" >RIV/70883521:28110/12:43867982 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/70883521:28610/12:43867982
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1007/s11090-012-9387-7" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1007/s11090-012-9387-7</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1007/s11090-012-9387-7" target="_blank" >10.1007/s11090-012-9387-7</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Treatment and Stability of Sodium Hyaluronate Films in Low Temperature Inductively Coupled Ammonia Plasma
Popis výsledku v původním jazyce
Surface of sodium hyaluronate films was modified in the inductively coupled low temperature ammonia plasma. The amount of bonded nitrogen was measured by the XPS method. The optical emission and temperature of the sample surface were measured during sample processing. Increased processing time and increased discharge power caused a rise of nitrogen concentration on the surface of hyaluronan films, though this effect is limited due to surface saturation and sample destruction at elevated discharge power.
Název v anglickém jazyce
Treatment and Stability of Sodium Hyaluronate Films in Low Temperature Inductively Coupled Ammonia Plasma
Popis výsledku anglicky
Surface of sodium hyaluronate films was modified in the inductively coupled low temperature ammonia plasma. The amount of bonded nitrogen was measured by the XPS method. The optical emission and temperature of the sample surface were measured during sample processing. Increased processing time and increased discharge power caused a rise of nitrogen concentration on the surface of hyaluronan films, though this effect is limited due to surface saturation and sample destruction at elevated discharge power.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
CD - Makromolekulární chemie
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2012
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Plasma Chemistry and Plasma Processing
ISSN
0272-4324
e-ISSN
—
Svazek periodika
32
Číslo periodika v rámci svazku
5
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
17
Strana od-do
1075-1091
Kód UT WoS článku
000308191500011
EID výsledku v databázi Scopus
—