Optimalizace vlastností rezistu pro STL využívající dvou-fotonový záchyt
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F70883521%3A28610%2F19%3A63524558" target="_blank" >RIV/70883521:28610/19:63524558 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
čeština
Název v původním jazyce
Optimalizace vlastností rezistu pro STL využívající dvou-fotonový záchyt
Popis výsledku v původním jazyce
Předmětem zakázky bylo vytvoření rešerše k materiálům vhodným k použití pro dvou-fotonový záchyt, příprava vzorků rezistů pro mikro a nanotechnologii s vhodnou koncentrací fotoiniciátorů a quencherů a měření optických vlastností připravených směsí.
Název v anglickém jazyce
Optimization of resist properties for STL using two photon absorption
Popis výsledku anglicky
The contractual research was focused on search for materials suitable for two-photon absorption, preparation of resist samples for micro and nanotechnology with suitable concentration of photoinitiators and quenchers and measurement of optical properties of prepared mixtures.
Klasifikace
Druh
V<sub>souhrn</sub> - Souhrnná výzkumná zpráva
CEP obor
—
OECD FORD obor
21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
N - Vyzkumna aktivita podporovana z neverejnych zdroju
Ostatní
Rok uplatnění
2019
Kód důvěrnosti údajů
C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.
Údaje specifické pro druh výsledku
Počet stran výsledku
43
Místo vydání
—
Název nakladatele resp. objednatele
IQS nano, s.r.o.
Verze
—