Ion energy distributions and efficiency of sputtering process in HIPIMS system

Result code in IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F49777513%3A23520%2F08%3A00500332" target="_blank" >RIV/49777513:23520/08:00500332 - isvavai.cz</a>

Result on the web

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Result language

angličtina

Original language name

Ion energy distributions and efficiency of sputtering process in HIPIMS system

Original language description

High-power impulse magnetron sputter deposition of metallic films was investigated. Time-averaged mass spectroscopy was performed to provide information on the energy distribution of individual ions and the composition of total ion fluxes over a wide range of deposition conditions. Chromium and niobium targets were used, the repetition frequency was 50 Hz and 60 Hz, respectively, and argon pressures were 0.29 Pa and 2.7 Pa. The strong effect of the working gas pressure on the ion energy distribution wasshown. For low pressure (0.29 Pa) the metal ion energy distribution reveals a significant high energy tail (up to 20 eV). At a high pressure (2.7 Pa), the high energy tail of metal ion energy distribution became negligible. The efficiency of the sputtering process and particle transport to the substrate decreased with increasing target power loading.

Czech name

Energiové rozdělení iontů a efektivita naprašování v HIPIMS systemu

Czech description

Byla zkoumána vysokovýkonová pulzní magnetronová depozice kovových filmů. Časově průměrovaná hmotnostní spektroskopie byla použita k získání informací o energiovém rozdělení jednotlivých iontů a o složení celkového iontového toku v širokém rozsahu depozičních podmínek. Byly použity chromové a niobové terče, opakovací frekvence byla 50 Hz a 60 Hz a tlak argonu 0.29 a 2.7 Pa. Byl ukázán silný vliv pracovního tlaku na energiové rozdělení iontů. Při nízkých tlacích (0.29Pa) energiové rozdělení kovových iontů vykazuje významný vysokoenergiový chvost (až do 20 eV). Při vysokém tlaku (2.7Pa) se vysokoenergiový chvost kovových iontů stává bezvýznamným. Efektivita rozprašovacího procesu a transportu částic klesá s rostoucím výkonem dodaným na terč.

Type

J_x - Unclassified - Peer-reviewed scientific article (Jimp, Jsc and Jost)

CEP classification

BL - Plasma physics and discharge through gases

OECD FORD branch

—

Project

—

Continuities

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Publication year

2008

Confidentiality

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Name of the periodical

Journal of Physics D: Applied Physics

ISSN

0022-3727

e-ISSN

—

Volume of the periodical

41

Issue of the periodical within the volume

11

Country of publishing house

GB - UNITED KINGDOM

Number of pages

1

Pages from-to

—

UT code for WoS article

000256172200036

EID of the result in the Scopus database

—