Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Simulací řízený vývoj technologie FastPIMS: systém rychlého spínání pro pulzní RF/HiPIMS plazmové aplikace

Cíle projektu

Cílem projektu je vyvinout globální model RF a HiPIMS naprašování, který umožní proces RF/HiPIMS naprašování oxidových povlaků nastavit a přizpůsobit pro konkrétní uživatele a jejich aplikace bez nutnosti zdlouhavého procesu testování, včetně ověřené technologie a validační a verifikační studie. Jedná se národní projekt, který byl podán společně s německými partnery (výzkumná organizace a podnik) v rámci mezinárodního schématu Ira-SME. Cílem projektu je vyvinout prototypovací software, který umožní proces RF/HiPIMS naprašování oxidových povlaků nastavit a přizpůsobit pro konkrétní uživatele a jejich aplikace bez nutnosti zdlouhavého procesu testování metodou pokus-omyl. Využije přitom své know-how v oblasti vývoje průmyslových simulací pro procesy fyzikálního napařování (PVD) a nanášení povlaků pomocí plazmatu (PECVD). Doposud se firma v rámci svého vývoje zaměřovala na stejnosměrné (DC) nebo pulzní naprašování zejména supertvrdých nitridových vrstev. Nové navrhované řešení přichází s unikátní kombinací RF (radiofrekvenční) a HiPIMS (high-impulse power magnetron sputtering) naprašování pro přípravu funkčních oxidových povlaků pro zejména polovodičový, solární nebo optický průmysl.

Klíčová slova

sputteringOxide coatingssoftware

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Ministerstvo průmyslu a obchodu

  • Program

    Operační program Technologie a aplikace pro konkurenceschopnost (2021-2027)

  • Veřejná soutěž

  • Hlavní účastníci

    PlasmaSolve s.r.o.

  • Druh soutěže

    OP - Operační program EU

  • Číslo smlouvy

    MPO 111808/23/61400

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    FastPIMS: Simulation driven Fast switch match system for pulsed rf/HiPIMS plasma applications

  • Anotace anglicky

    The goal of the project is to develop a global RF and HiPIMS sputtering model that will allow the RF/HiPIMS sputtering process of oxide coatings to be set up and customized for specific users and their applications without the need for a lengthy testing process, including proven technology and validation and verification studies. It is a national project that was submitted together with German partners (research organization and company) within the international scheme Ira-SME. The goal of the project is to develop prototyping software that will allow the RF/HiPIMS sputtering process of oxide coatings to be set up and customized for specific users and their applications without the need for a lengthy trial-and-error testing process. He will use his know-how in the field of developing industrial simulations for physical vapor deposition (PVD) and plasma-assisted coating (PECVD) processes. Until now, the company has focused on direct current (DC) or pulse sputtering of superhard nitride layers in its development. The new proposed solution comes with a unique combination of RF (radio frequency) and HiPIMS (high-impulse power magnetron sputtering) sputtering for the preparation of functional oxide coatings especially for the semiconductor, solar or optical industries.

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    AP - Aplikovaný výzkum

  • OECD FORD - hlavní obor

    10201 - Computer sciences, information science, bioinformathics (hardware development to be 2.2, social aspect to be 5.8)

  • OECD FORD - vedlejší obor

  • OECD FORD - další vedlejší obor

  • CEP - odpovídající obory
    (dle převodníku)

    AF - Dokumentace, knihovnictví, práce s informacemi
    BC - Teorie a systémy řízení
    BD - Teorie informace
    IN - Informatika

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 5. 2023

  • Ukončení řešení

    30. 4. 2025

  • Poslední stav řešení

    K - Končící víceletý projekt

  • Poslední uvolnění podpory

    13. 12. 2023

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP25-MPO-EI-R

  • Datum dodání záznamu

    20. 2. 2025

Finance

  • Celkové uznané náklady

    5 997 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    0 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    0 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    2 040 tis. Kč


Poskytovatel

Ministerstvo průmyslu a obchodu

OECD FORD

Computer sciences, information science, bioinformathics (hardware development to be 2.2, social aspect to be 5.8)

Doba řešení

01. 05. 2023 - 30. 04. 2025