Výzkum a vývoj nových pulzních plazmových technologií pro depozici pokročilých tenkovrstvých materiálů

Poskytovatel

Ministerstvo průmyslu a obchodu

Program

TRIO

Veřejná soutěž

TRIO 3 (SMPO201800001)

Hlavní účastníci

HVM PLASMA, spol. s r.o.

Druh soutěže

VS - Veřejná soutěž

Číslo smlouvy

2018FV30177

Název projektu anglicky

Research and development of novel pulsed plasma technologies for deposition of advanced thin-film materials

Anotace anglicky

The project aim is to develop and implement in the production practice most advanced, very recently published sputtering technologies based on High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) method. Specifically, it comprises fast reactive HiPIMS deposition of oxide layers for sensors, deposition of hard abrasion-resistant layers on non-conductive substrates and implementation of hybrid HiPIMS arc-evaporative technology. These innovative technologies can significantly advance plasma deposition technologies to prepare materials with specific properties and contribute to the production of entirely new nanotechnology-based products. Potential applications are not only in HVM PLASMA, spol. s r.o., but in other companies as well, as the impact of project objectives may be far broader and affect related fields, such as layers for microelectronics, protective and decorative coatings, photovoltaics and the like.

Kategorie VaV

AP - Aplikovaný výzkum

OECD FORD - hlavní obor

20503 - Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)

OECD FORD - vedlejší obor

10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

OECD FORD - další vedlejší obor

—

CEP - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

BK - Mechanika tekutin<br>BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech<br>JJ - Ostatní materiály

Hodnocení poskytovatelem

U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)

Zhodnocení výsledků projektu

Projekt dosáhl stanovených cílů a výstupů projektu. Výsledkem řešení projektu je zdroj pro technologii HIPIMS s obloukovým odpařováním, magnetronově naprašovaný tenzometrický senzor, technologie - sensorická vrstva NiCr v tlakovém pnutí připravená pomocí HiPIMS s kladným pulzem na konci záporného pulzu na nevodivé substráty.

Zahájení řešení

1. 1. 2018

Ukončení řešení

31. 12. 2021

Poslední stav řešení

U - Ukončený projekt

Poslední uvolnění podpory

22. 3. 2021

Důvěrnost údajů

C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

Systémové označení dodávky dat

CEP22-MPO-FV-U

Datum dodání záznamu

12. 4. 2024

Celkové uznané náklady

12 706 tis. Kč

Výše podpory ze státního rozpočtu

9 000 tis. Kč

Ostatní veřejné zdroje financování

0 tis. Kč

Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

3 706 tis. Kč