Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev

Cíle projektu

Výzkum reaktivního impulsního naprašování (R-HiPIMS) je stále v začátcích. Pozornost je spíše soustředěna na charakterizaci deponovaných vrstev než na charakterizaci procesu depozice. Cílem projektu je proto přispět k porozumění vzájemného vztahu mezi módy depozičního procesu HiPIMS (metalický, přechodový, otrávený) a lokálními parametry plazmatu, jako energie a toky neutrálních a nabitých částic na substrát, hustotu, teplotu a rozdělovací funkci elektronů, a hustoty rozprašovaných částic. Projekt je zaměřen na charakterizaci depozičního procesu HiPIMS při depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev pomocí pokročilých a nových diagnostických metod s cílem zjistit vliv parametrů procesu na vlastnosti deponovaných vrstev. Významná pozornost bude věnována nestabilitám plazmatu, tzv. spoke-ům, které provázejí HiPIMS proces, a jejich vlivu na depoziční proces. Experimentální výsledky budou srovnány s teoretickými modely.

Klíčová slova

Magnetronreactive sputteringHiPIMSLangmuir probeSobolewski probestrip probeac probemass spectrometryoptical emission spectroscopyTiO2TiWNQCMEBS branching technique

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Grantová agentura České republiky

  • Program

    Standardní projekty

  • Veřejná soutěž

    Standardní projekty 23 (SGA0201900001)

  • Hlavní účastníci

    Univerzita Karlova / Matematicko-fyzikální fakulta

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

    19-00579S

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    Advanced diagnostics of reactive HiPIMS plasma for deposition of oxide, nitride and sulfide layers

  • Anotace anglicky

    Research in the Reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering (R-HiPIMS) field is still in its early stages mainly focusing on compound film characterisation rather than on the description of processes accompanying the deposition. The aim of the project is to well understand relationships between the R-HiPIMS process modes (metallic, transition and compound) and the local parameters of the deposition plasma (such as the energies and fluxes of different species on the substrate, electron density and distribution functions, and sputtered species number densities). The project focuses on the characterisation of the R-HiPIMS process by advanced plasma diagnostics tools during deposition of oxide, nitride or sulphide thin films with the aim to increase the level of understanding of the R-HiPIMS process. Particular attention will be paid to study of the plasma instabilities (so called spokes) which occur at the HiPIMS conditions and to assess the impact of the spoke presence on the R-HiPIMS deposition process. Experimental results will be compared with theoretical models.

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    ZV - Základní výzkum

  • OECD FORD - hlavní obor

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

  • OECD FORD - vedlejší obor

  • OECD FORD - další vedlejší obor

  • CEP - odpovídající obory
    (dle převodníku)

    BK - Mechanika tekutin
    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    Projekt dosáhl významných výsledků, shrnutých v 23 relevantních publikacích. Na projektu se podílelo velké množství studentů. Projekt proběhl v souladu s pravidly GAČR. Závěrečná karta je adekvátní.

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 1. 2019

  • Ukončení řešení

    31. 12. 2021

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

    30. 4. 2021

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP22-GA0-GA-U

  • Datum dodání záznamu

    29. 6. 2022

Finance

  • Celkové uznané náklady

    11 303 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    9 645 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    1 658 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    0 tis. Kč

Základní informace

Uznané náklady

11 303 tis. Kč

Statní podpora

9 645 tis. Kč

85%


Poskytovatel

Grantová agentura České republiky

OECD FORD

Fluids and plasma physics (including surface physics)

Doba řešení

01. 01. 2019 - 31. 12. 2021