Koloidní difuzní zdroje pro technologii výkonových polovodičových součástek

Poskytovatel

Ministerstvo průmyslu a obchodu

Program

TRIO

Veřejná soutěž

TRIO 3 (SMPO201800001)

Hlavní účastníci

Hitachi Energy Czech Republic s.r.o.

Druh soutěže

VS - Veřejná soutěž

Číslo smlouvy

2018FV30151

Název projektu anglicky

Colloidal diffuse sources for the technology of power semiconductor devices

Anotace anglicky

The project is focused to the industrial research of a novel technology of high-power semiconductor components. This technology belongs to the key enabling technologies (KETs). The most of semiconductor components are based on PN junction. PN junction is created by doping of selected chemical elements, usually phosphorus or boron, into a silicon substrate. Liquid diffusion sources are usually used in modern industrial technology. This technology doesn’t allow achieving the higher yield than 75 % of the theoretical yield. The reason lies in low homogeneity of prepared films which- together with the distribution of components on the silica substrate- reduces the yield of at least about 25 %. The replacement of liquid diffusion sources by solutions contain nanoparticles, so called colloidal solutions, can eliminate this disadvantage. The main goal of the project is the research of colloidal diffusion sources of phosphorus and boron and their application in the industrial technology of high-power semiconductor devices, especially the rectifier diodes. Developed colloidal diffusion sources will be applied in the current production technology and they will replace currently used liquid diffusion sources. The project combines the know-how of the Institute of Photonics and electronics in the field of inorganic nanomaterials with the production technology of high-power semiconductor components of the company ABB, s.r.o. The results of the joint research will be put into the production and the elaborated colloidal sources will be immediately used in the production technology of ABB, s.r.o. The use of colloidal diffuse sources will reduce the energy consumption of the production and it will contribute to increasing the efficiency of the exploitation of materials that are necessary for final production.

Kategorie VaV

AP - Aplikovaný výzkum

OECD FORD - hlavní obor

20201 - Electrical and electronic engineering

OECD FORD - vedlejší obor

20503 - Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)

OECD FORD - další vedlejší obor

—

CEP - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika<br>JB - Senzory, čidla, měření a regulace<br>JJ - Ostatní materiály

Hodnocení poskytovatelem

U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)

Zhodnocení výsledků projektu

Výsledkem řešení projektu jsou koloidní difuzní zdroje fosforu a bóru a jejich aplikace v technologii polovodičových výkonových součástek, především při výrobě usměrňovacích diod.

Zahájení řešení

1. 1. 2018

Ukončení řešení

31. 12. 2019

Poslední stav řešení

U - Ukončený projekt

Poslední uvolnění podpory

18. 3. 2019

Důvěrnost údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Systémové označení dodávky dat

CEP20-MPO-FV-U

Datum dodání záznamu

15. 5. 2024

Celkové uznané náklady

10 198 tis. Kč

Výše podpory ze státního rozpočtu

6 567 tis. Kč

Ostatní veřejné zdroje financování

0 tis. Kč

Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

3 632 tis. Kč