Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”
FV30177

Výzkum a vývoj nových pulzních plazmových technologií pro depozici pokročilých tenkovrstvých materiálů

Cíle projektu

Cílem projektu je rozvinout a implementovat do výrobní praxe nejpokročilejší, jen velmi nedávno publikované naprašovací technologie založené na metodě magnetronového naprašování s pulzy o vysokém výkonu (HiPIMS). Konkrétně jde o rychlou reaktivní HiPIMS depozici oxidových vrstev pro senzory, depozici tvrdých otěruvzdorných vrstev na nevodivé substráty a implementaci hybridní technologie HiPIMS s obloukovým odpařováním. Tyto inovativní technologie mohou významným způsobem posunout vpřed plazmatické depoziční technologie určené k přípravě materiálů se specifickými vlastnostmi a přispět k výrobě zcela nových produktů založených na nanotechnologiích. Potenciální aplikace jsou jak ve firmě HVM PLASMA, spol. s r.o., tak i v dalších firmách, neboť dopad cílů projektu může být daleko širší a ovlivnit i příbuzné obory, například vrstvy pro mikroelektroniku, ochranné a dekorativní povlaky, fotovoltaiku a podobně.

Klíčová slova

High power impulse magnetron sputtering (HiPIMS)Pulse technologiesArc evaporationThin film depositionNanoparticlesReactive sputteringIon energyPlasma diagnosticsInsulating substrateSensors

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Ministerstvo průmyslu a obchodu

  • Program

    TRIO

  • Veřejná soutěž

    TRIO 3 (SMPO201800001)

  • Hlavní účastníci

    HVM PLASMA, spol. s r.o.

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

    2018FV30177

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    Research and development of novel pulsed plasma technologies for deposition of advanced thin-film materials

  • Anotace anglicky

    The project aim is to develop and implement in the production practice most advanced, very recently published sputtering technologies based on High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) method. Specifically, it comprises fast reactive HiPIMS deposition of oxide layers for sensors, deposition of hard abrasion-resistant layers on non-conductive substrates and implementation of hybrid HiPIMS arc-evaporative technology. These innovative technologies can significantly advance plasma deposition technologies to prepare materials with specific properties and contribute to the production of entirely new nanotechnology-based products. Potential applications are not only in HVM PLASMA, spol. s r.o., but in other companies as well, as the impact of project objectives may be far broader and affect related fields, such as layers for microelectronics, protective and decorative coatings, photovoltaics and the like.

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    AP - Aplikovaný výzkum

  • OECD FORD - hlavní obor

    20503 - Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)

  • OECD FORD - vedlejší obor

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

  • OECD FORD - další vedlejší obor

  • CEP - odpovídající obory
    (dle převodníku)

    BK - Mechanika tekutin
    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
    JJ - Ostatní materiály

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    Projekt dosáhl stanovených cílů a výstupů projektu. Výsledkem řešení projektu je zdroj pro technologii HIPIMS s obloukovým odpařováním, magnetronově naprašovaný tenzometrický senzor, technologie - sensorická vrstva NiCr v tlakovém pnutí připravená pomocí HiPIMS s kladným pulzem na konci záporného pulzu na nevodivé substráty.

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 1. 2018

  • Ukončení řešení

    31. 12. 2021

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

    22. 3. 2021

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP22-MPO-FV-U

  • Datum dodání záznamu

    12. 4. 2024

Finance

  • Celkové uznané náklady

    12 706 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    9 000 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    0 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    3 706 tis. Kč

Základní informace

Uznané náklady

12 706 tis. Kč

Statní podpora

9 000 tis. Kč

70%


Poskytovatel

Ministerstvo průmyslu a obchodu

OECD FORD

Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)

Doba řešení

01. 01. 2018 - 31. 12. 2021