Vše
Vše

Co hledáte?

Vše
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Povrchy nanovrstev GaAs a Ga1-xMnxAs připravených nízkoteplotní molekulární epitaxí

Cíle projektu

Krystalické nanovrstvy GaAs budou připraveny nízkoteplotní molekulární epitaxí (LT MBE) a budou kontrolovány in situ pomocí RHEED. Tato epitaxe umožňuje zabudovat magnetické nečistoty do polovodiče a tak směřuje k perspektivnímu vytvoření materiálu kombinujícího magnetické vlastnosti s pokročilou polovodičovou technologií. Nízkoteplotní růst poskytuje nanovrstvy s fyzikálními vlastnostmi závisejícími na růstových podmínkách a na následujícím temperování. Vzorky se budou transportovat v ultravysokémvakuudo úhlově rozlišeného elektronového spektrometru. Budou se měřit intenzity elektronových svazků difraktovaných od povrchu, energiově a úhlově rozlišená fotoelektronová spektra emitovaná z valenčního pásu a z vnitřních hladin atomů. Experimentální data se budou interpretovat teoreticky pomocí dynamické teorie LEED, jednostupňového modelu fotoemise a fotoelektronové difrakce z konečného souboru atomů. Feromagnetické vzorky dotované Mn se budou studovat polarizovanými fotony ze zdroje

Klíčová slova

GaAs nanolayersMBEsurface crystallographyelectron and magnetic structureLEED

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Grantová agentura České republiky

  • Program

    Standardní projekty

  • Veřejná soutěž

    Standardní projekty 10 (SGA02007GA-ST)

  • Hlavní účastníci

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

    202/07/0601

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    Surfaces of crystalline nanolayers GaAs and Ga1-xMnxAs deposited by low-temperature molecular beam epitaxy

  • Anotace anglicky

    GaAs crystalline nanolayers will be prepared by the low-temperature molecular beam epitaxy (LT MBE) and controlled in situ by means of RHEED. The LT MBE enables incorporation of magnetic impurities into the semiconductor and thus aims to perspective combination of magnetic properties with the advanced semiconductor structure technology. This LT growth technique provides samples with physical properties depending on the details of the growth conditions and of the annealing. The samples will be transported under ultrahigh vacuum to the angular resolved electron spectrometer. The intensities of electron beams diffracted from the surface, energy- and angle- resolved distributions of electrons photoemitted from the valence band and from the core levels willbe measured. The experimental data will be interpreted theoretically by means of the dynamical theory of LEED, of the one-step model of angle-resolved photoemission and of the cluster model for photoelectron diffraction. Ferromagnetic

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    ZV - Základní výzkum

  • CEP - hlavní obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • CEP - vedlejší obor

  • CEP - další vedlejší obor

  • OECD FORD - odpovídající obory
    (dle převodníku)

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    Pro studium povrchů nanovrstev GaAs a (Ga,Mn)As připravených v laboratoři MBE FZÚ bylo uvedeno do provozu přenosné zařízení umožňující přenos neporušených povrchů od nové aparatury Veeco pod ultravysokým vakuem do fotoelektronového spektrometru ADE?

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 1. 2007

  • Ukončení řešení

    31. 12. 2010

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

    16. 4. 2010

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP11-GA0-GA-U/03:3

  • Datum dodání záznamu

    9. 2. 2015

Finance

  • Celkové uznané náklady

    2 437 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    2 437 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    0 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    0 tis. Kč

Základní informace

Uznané náklady

2 437 tis. Kč

Statní podpora

2 437 tis. Kč

100%


Poskytovatel

Grantová agentura České republiky

CEP

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

Doba řešení

01. 01. 2007 - 31. 12. 2010