Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Kompenzace neizoperiodičnosti v heteropřechodech na mikro a nanoporézních polovodičích A3B5 a depozice kovů a polovodičů do mikropórů

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Grantová agentura České republiky

  • Program

    Standardní projekty

  • Veřejná soutěž

    Standardní projekty 13 (SGA02010GA-ST)

  • Hlavní účastníci

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

    P108-10-0253

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    Lattice mismatch compensation in heteroepitaxy on micro and nanoporous A3B5 semiconductors and deposition of metals and semiconductors into micropores

  • Anotace anglicky

    This project focuses on the epitaxial growth of highly mismatched heterostructures on porous substrates of A3B5 semiconductors and on the deposition of metallic and semiconductor materials into micropores. Preparation of high quality lattice mismatched epitaxial layers is one of the most challenging tasks in semiconductor technology. Electrochemically prepared micro and nanopores in InP and GaAs will be overgrown by LPE and MOCVD to evaluate (i) the conversion of pores into microbubbles and microlamellae, (ii) the expected reduction of dislocation density in the overgown layer, (iii) the strain distribution at heterointerfaces. Remote plasma CVD and electrochemical deposition will be used to deposit ZnO into micropores and onto porous GaP substrates tostudy the unique optical properties of these structures. Pt will be deposited electrochemically into porous networks as the first step towards the preparation of metamaterials. Structural, electrical, and optical properties will be investigated by optical microscopy, SEM, AFM, SIMS, wet etching, Hall measurement, PL, and microCL.

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    ZV - Základní výzkum

  • CEP - hlavní obor

    JJ - Ostatní materiály

  • CEP - vedlejší obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • CEP - další vedlejší obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)<br>20201 - Electrical and electronic engineering<br>20502 - Paper and wood<br>20503 - Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)<br>21001 - Nano-materials (production and properties)<br>21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    Projekt přispěl k pokroku v přípravě vysoce kvalitních epitaxních vrstev materiálů na polovodičových substrátech s mřížkovým nepřízpusobením, které umožňují rozšíření rozsahu realizovatelných součástek na daném substrátu. Nový způsob přípravy a další vý?

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 1. 2010

  • Ukončení řešení

    31. 12. 2012

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

    1. 4. 2012

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP13-GA0-GA-U/02:3

  • Datum dodání záznamu

    17. 5. 2016

Finance

  • Celkové uznané náklady

    2 431 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    2 431 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    0 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    0 tis. Kč