Pokročilý experimentální výzkum výbojových zdrojů plazmatu použitých pro přípravu nanostrukturovaných tenkých vrstev

Poskytovatel

Grantová agentura České republiky

Program

Standardní projekty

Veřejná soutěž

Standardní projekty 14 (SGA02011GA-ST)

Hlavní účastníci

—

Druh soutěže

VS - Veřejná soutěž

Číslo smlouvy

P205-11-0386

Název projektu anglicky

Advanced experimental research of discharge plasma sources applied for deposition of nanostructured thin films

Anotace anglicky

We propose in the project to perform investigation of plasma sources operating in pulse regime (cylindrical and planar magnetron, hollow cathode and surfatron-generated plasma jet), to characterize plasma sources with respect to deposition of thin filmsand together with computer simulation to clarify physical processes during growth and formation of films. The plasma sources will be investigated by appropriate diagnostics methods and obtained results will be used as input parameters into the computer simulations. The main objectives are:- To optimize plasma sources in pulse regime for efficient thin oxide film deposition: low-pressure dc magnetron, hollow cathode and microwave plasma jet.- To implement in these plasma sources the best suitable forms of the time-resolved diagnostic techniques: electrostatic probe, optical emission and laser absorption spectroscopy, mass spectrometry and ion flux diagnostics.- To obtain experimental data on the complex plasma processes occurring within these sources and to understand their significance with respect to the deposited nanocrystalline material properties including diagnostics of crystallographic structure.- Acquired plasma parameters and measured thin film properties will be used for development of computer simulation of thin film growth and enable us to describe basic physical principles responsible for thin film formation.

Kategorie VaV

ZV - Základní výzkum

CEP - hlavní obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

CEP - vedlejší obor

—

CEP - další vedlejší obor

—

OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)

Hodnocení poskytovatelem

V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)

Zhodnocení výsledků projektu

Přínos projektu spočívá v rozvoji sondových diagnostik (modifikovaná Katsumata sonda) umožňujících mapování iontových toků na substrát v hybrid- ních HiPIMS systémech, v oblasti depozice tenkých vrstev (kompozitní gradientní Ti-Cu vrstvy, řízení krystal?

Zahájení řešení

1. 1. 2011

Ukončení řešení

31. 12. 2013

Poslední stav řešení

U - Ukončený projekt

Poslední uvolnění podpory

12. 6. 2013

Důvěrnost údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Systémové označení dodávky dat

CEP14-GA0-GA-U/01:1

Datum dodání záznamu

1. 7. 2014

Celkové uznané náklady

6 124 tis. Kč

Výše podpory ze státního rozpočtu

6 124 tis. Kč

Ostatní veřejné zdroje financování

0 tis. Kč

Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

0 tis. Kč