Studium fyzikálních vlastností a aplikací nízkotlakého plazmochemického reaktoru se systémem plazmatických kanálů pro depozici tenkých vrstev

Poskytovatel

Grantová agentura České republiky

Program

Postdoktorandské granty

Veřejná soutěž

Postdoktorandské granty 2 (SGA02002GA-PD)

Hlavní účastníci

Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.

Druh soutěže

VS - Veřejná soutěž

Číslo smlouvy

—

Název projektu anglicky

Investigation of physical properties and applications of the low pressure plasma-chemical reactor with the system plasma jet channels for thin films deposition

Anotace anglicky

Proposal project deals with a study of plasma jet channels in the plasma chemical reactor with hollow cathodes during the deposition of thin films. Purpose of this study will be a better understanding of processes in the reactive plasma effecting growthprocesses of deposited films. This study should extend applicability and lead to optimization of these technologies. Hollow cathode discharge plasma will be generated by RF, modulated RF, DC, and pulsed DC sources. Plasma jet parameters will be measuredbyemission spectroscopy. Spectrometer TRIAX Joben Yvon equipped with UV-VIS CCD detector and with fast response photomultiplier detector will be used for that purpose. In addition a measurement with RF compensated Langmuir probe will be employed aswell. Investigation of the plasma parameters will be done during the deposition of oriented polycrystalline ZnO thin films (c axis perpendicular to the substrate surface) and those similar films doped by Lithium. For that purpose, Zn or composed Zn

Kategorie VaV

ZV - Základní výzkum

CEP - hlavní obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

CEP - vedlejší obor

JP - Průmyslové procesy a zpracování

CEP - další vedlejší obor

CI - Průmyslová chemie a chemické inženýrství

OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)<br>20401 - Chemical engineering (plants, products)<br>20402 - Chemical process engineering<br>20501 - Materials engineering<br>20705 - Remote sensing<br>20706 - Marine engineering, sea vessels<br>20707 - Ocean engineering

Hodnocení poskytovatelem

V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)

Zhodnocení výsledků projektu

V rámci řešení projektu bylo realizováno několik druhů diagnostik nízkoteplotního plazmatu, které byly implantované do zkoumaného plazmového reaktoru s dutou katodou. Ten byl modifikován a optimalizován pro depozici určitých typů tenkých vrstev zejména s

Zahájení řešení

1. 1. 2002

Ukončení řešení

1. 1. 2004

Poslední stav řešení

U - Ukončený projekt

Poslední uvolnění podpory

—

Důvěrnost údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Systémové označení dodávky dat

CEP/2005/GA0/GA05GP/U/N/A:8

Datum dodání záznamu

23. 7. 2008

Celkové uznané náklady

1 800 tis. Kč

Výše podpory ze státního rozpočtu

676 tis. Kč

Ostatní veřejné zdroje financování

1 124 tis. Kč

Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

0 tis. Kč