Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”
TA01011740

Nízkoteplotní hybridní mikrovlnné plazmové zdroje s vysokým stupněm ionizace uspořádaných v matricové konfiguraci umožňujících depozice perspektivných materiálů a jejich (nano) kompozitů na 2D a 3D objekty

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Technologická agentura ČR

  • Program

    Program na podporu aplikovaného výzkumu a experimentálního vývoje ALFA

  • Veřejná soutěž

    ALFA 1 (STA02011TA01)

  • Hlavní účastníci

    SVCS Process Innovation s.r.o.

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

    20110108

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    Hybrid high-density low-temperature microwave plasma sources in matrix configuration suitable for growth of advanced materials and their (nano) composites on 2D and 3D substrates

  • Anotace anglicky

    Main goal of the proposed project is design, development and realization of hybrid and fully modular microwave plasma assisted chemical vapor deposition system based on high-density cold-plasma generated by surfatron suitable for growth of novel and advanced materials and their (nano) composite forms such as oxides (TiO2, ZnO) or diamond. The main challenging part of the project is fulfilling several industrial aspects in one platform where requirements like implementation of 2D/3D geometrically shapedsubstrates, large area, low temperature growth, high reliability and reproducibility of whole plasma deposition process and long-term well defined process conditions will be combined. For this purpose, such plasma system either in radial or linear arrangement will be systematically studied by variety of analytic conditions as the function of process parameters (total pressure, gas mixture, plasma source geometry, etc.). The final deposition system will be the backbone for further industrial uses.

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    AP - Aplikovaný výzkum

  • CEP - hlavní obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • CEP - vedlejší obor

    JJ - Ostatní materiály

  • CEP - další vedlejší obor

    JA - Elektronika a optoelektronika, elektrotechnika

  • OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

    10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)<br>20201 - Electrical and electronic engineering<br>20502 - Paper and wood<br>20503 - Textiles; including synthetic dyes, colours, fibres (nanoscale materials to be 2.10; biomaterials to be 2.9)<br>21001 - Nano-materials (production and properties)<br>21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    V - Vynikající výsledky projektu (s mezinárodním významem atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    Jedná se o předběžné údaje, neproběhlo schválení poskytovatele.

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 1. 2011

  • Ukončení řešení

    31. 12. 2014

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

    28. 2. 2013

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP15-TA0-TA-U/04:1

  • Datum dodání záznamu

    10. 7. 2020

Finance

  • Celkové uznané náklady

    29 820 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    23 631 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    0 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    6 189 tis. Kč