Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”
TF03000025

Výzkum a vývoj nového plazma aktivovaného ALD depozičního systému s unikátním zdrojem nízkoteplotního plazmatu na bázi mikrovlnného surfatronu a ECWR výboje.

Veřejná podpora

  • Poskytovatel

    Technologická agentura ČR

  • Program

    Program podpory aplikovaného výzkumu a experimentálního vývoje DELTA

  • Veřejná soutěž

    DELTA 3 (STA02017TF03)

  • Hlavní účastníci

    SVCS Process Innovation s.r.o.

  • Druh soutěže

    VS - Veřejná soutěž

  • Číslo smlouvy

    2016TF03000025

Alternativní jazyk

  • Název projektu anglicky

    Research and development of new plasma-activated ALD system with a unique source of low-temperature plasma based on microwave surfatron and ECWR discharge.

  • Anotace anglicky

    The aim of the project is design, development and implementation of plasma ALD system for low-temperature deposition of thin dielectric and metal films with possibility of application of the atomic layer etching (ALEt). The developed system will appropriately implement the low-temperature discharge into the ALD system. The project will use MW surfatron and ECWR plasma sources. The project focus on the creation of a homogeneous and sufficiently active plasma (high degree of ionization, dissociation and excitation of precursors and reactants) above the substrate. We expect to achieve a higher quality of deposited films compared to the available plasma-activated ALD processes and that developed technology will allow to prepare new types of thin films on new progressive types of substrates.

Vědní obory

  • Kategorie VaV

    VV - Experimentální vývoj

  • CEP - hlavní obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • CEP - vedlejší obor

    JP - Průmyslové procesy a zpracování

  • CEP - další vedlejší obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD - odpovídající obory <br>(dle <a href="http://www.vyzkum.cz/storage/att/E6EF7938F0E854BAE520AC119FB22E8D/Prevodnik_oboru_Frascati.pdf">převodníku</a>)

    10302 - Condensed matter physics (including formerly solid state physics, supercond.)<br>10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)<br>20501 - Materials engineering<br>20705 - Remote sensing<br>20706 - Marine engineering, sea vessels<br>20707 - Ocean engineering

Hodnocení dokončeného projektu

  • Hodnocení poskytovatelem

    U - Uspěl podle zadání (s publikovanými či patentovanými výsledky atd.)

  • Zhodnocení výsledků projektu

    Hlavní cíl projektu byl splněn a rovněž bylo dosaženo deklarovaných výsledků podle platné metodiky, které mohou najít uplatnění na trhu. Na druhé straně nebyl časový prostor pro přípravu procesu depozice většího množství různých typů tenkých vrstev, rovněž tak pro nízkoteplotní depozici tenkých vrstev kovů. Na základě dostupných informací lze konstatovat, že zahraniční spolupráce probíhala, plánované činnosti jak z české strany, tak i ze strany zahraničního partnera byly vykonány v souladu s návrhem projektu. Mezinárodní spolupráce přispěla k naplnění cílů projektu. Příjemce uvažuje i o další spolupráci.

Termíny řešení

  • Zahájení řešení

    1. 11. 2016

  • Ukončení řešení

    31. 10. 2019

  • Poslední stav řešení

    U - Ukončený projekt

  • Poslední uvolnění podpory

    28. 2. 2019

Dodání dat do CEP

  • Důvěrnost údajů

    C - Předmět řešení projektu podléhá obchodnímu tajemství (§ 504 Občanského zákoníku), ale název projektu, cíle projektu a u ukončeného nebo zastaveného projektu zhodnocení výsledku řešení projektu (údaje P03, P04, P15, P19, P29, PN8) dodané do CEP, jsou upraveny tak, aby byly zveřejnitelné.

  • Systémové označení dodávky dat

    CEP20-TA0-TF-U

  • Datum dodání záznamu

    12. 5. 2023

Finance

  • Celkové uznané náklady

    27 370 tis. Kč

  • Výše podpory ze státního rozpočtu

    20 124 tis. Kč

  • Ostatní veřejné zdroje financování

    0 tis. Kč

  • Neveřejné tuz. a zahr. zdroje finan.

    7 246 tis. Kč