Atomic force microscopy studies of cross-sections of columnar thin films
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00177016%3A_____%2F07%3A%230000392" target="_blank" >RIV/00177016:_____/07:#0000392 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1088/0957-0233/18/2/S28" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1088/0957-0233/18/2/S28</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1088/0957-0233/18/2/S28" target="_blank" >10.1088/0957-0233/18/2/S28</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Atomic force microscopy studies of cross-sections of columnar thin films
Popis výsledku v původním jazyce
In this paper, the columnar structure of TiO2 and HfO2 thin films prepared on silicon wafers is studied using two modifications of atomic force microscopy (AFM), i.e., by standard AFM and micro-hardness modification of AFM. These methods are applied to the cross-sections of the films created by fracturing samples consisting of substrates covered with the films under investigation. It is shown that the edge of the film in the cross-section does not cause an obstacle for scanning the AFM images corresponding to both the AFM modifications mentioned above. In this paper it is also shown that the micro-hardness contrast mode of AFM is the more useful technique for imaging the columnar structure of films than standard AFM when film cross-sections exhibit artificial defects originated as a consequence of fracturing the films.
Název v anglickém jazyce
Atomic force microscopy studies of cross-sections of columnar thin films
Popis výsledku anglicky
In this paper, the columnar structure of TiO2 and HfO2 thin films prepared on silicon wafers is studied using two modifications of atomic force microscopy (AFM), i.e., by standard AFM and micro-hardness modification of AFM. These methods are applied to the cross-sections of the films created by fracturing samples consisting of substrates covered with the films under investigation. It is shown that the edge of the film in the cross-section does not cause an obstacle for scanning the AFM images corresponding to both the AFM modifications mentioned above. In this paper it is also shown that the micro-hardness contrast mode of AFM is the more useful technique for imaging the columnar structure of films than standard AFM when film cross-sections exhibit artificial defects originated as a consequence of fracturing the films.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/KAN311610701" target="_blank" >KAN311610701: Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
2007
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Measurement Science and Technology
ISSN
0957-0233
e-ISSN
—
Svazek periodika
18
Číslo periodika v rámci svazku
2
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
4
Strana od-do
528-531
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—