Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Atomic force microscopy studies of cross-sections of columnar thin films

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00177016%3A_____%2F07%3A%230000392" target="_blank" >RIV/00177016:_____/07:#0000392 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1088/0957-0233/18/2/S28" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1088/0957-0233/18/2/S28</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1088/0957-0233/18/2/S28" target="_blank" >10.1088/0957-0233/18/2/S28</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Atomic force microscopy studies of cross-sections of columnar thin films

  • Popis výsledku v původním jazyce

    In this paper, the columnar structure of TiO2 and HfO2 thin films prepared on silicon wafers is studied using two modifications of atomic force microscopy (AFM), i.e., by standard AFM and micro-hardness modification of AFM. These methods are applied to the cross-sections of the films created by fracturing samples consisting of substrates covered with the films under investigation. It is shown that the edge of the film in the cross-section does not cause an obstacle for scanning the AFM images corresponding to both the AFM modifications mentioned above. In this paper it is also shown that the micro-hardness contrast mode of AFM is the more useful technique for imaging the columnar structure of films than standard AFM when film cross-sections exhibit artificial defects originated as a consequence of fracturing the films.

  • Název v anglickém jazyce

    Atomic force microscopy studies of cross-sections of columnar thin films

  • Popis výsledku anglicky

    In this paper, the columnar structure of TiO2 and HfO2 thin films prepared on silicon wafers is studied using two modifications of atomic force microscopy (AFM), i.e., by standard AFM and micro-hardness modification of AFM. These methods are applied to the cross-sections of the films created by fracturing samples consisting of substrates covered with the films under investigation. It is shown that the edge of the film in the cross-section does not cause an obstacle for scanning the AFM images corresponding to both the AFM modifications mentioned above. In this paper it is also shown that the micro-hardness contrast mode of AFM is the more useful technique for imaging the columnar structure of films than standard AFM when film cross-sections exhibit artificial defects originated as a consequence of fracturing the films.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    <a href="/cs/project/KAN311610701" target="_blank" >KAN311610701: Nanometrologie využívající metod rastrovací sondové mikroskopie</a><br>

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2007

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Measurement Science and Technology

  • ISSN

    0957-0233

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    18

  • Číslo periodika v rámci svazku

    2

  • Stát vydavatele periodika

    GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

    528-531

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus