Computer simulations of 3C-SiC under hydrostatic and non-hydrostatic stresses
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11310%2F16%3A10325152" target="_blank" >RIV/00216208:11310/16:10325152 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1039/c6cp00081a" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1039/c6cp00081a</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1039/c6cp00081a" target="_blank" >10.1039/c6cp00081a</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Computer simulations of 3C-SiC under hydrostatic and non-hydrostatic stresses
Popis výsledku v původním jazyce
The response of 3C-SiC to hydrostatic pressure and to several uni- and bi-axial stress conditions is thoroughly investigated using first principles calculations. A topological interpretation of the chemical bonding reveals that the so-called non-covalent interactions enhance only at high pressure while the nature of the covalent Si-C bonding network keeps essentially with the same pattern. The calculated low compressibility agrees well with experimental values and is in concordance with the high structural stability of this polymorph under hydrostatic pressure. Under uniaxial [001] stress, the c/a ratio shows a noticeable drop inducing a closure of the band gap and the emergence of a metallic state around 40 GPa. This behavior correlates with a plateau of the electron localization function exhibiting a roughly constant and non-negligible value surrounding CSi4 and SiC4 covalent bonded units.
Název v anglickém jazyce
Computer simulations of 3C-SiC under hydrostatic and non-hydrostatic stresses
Popis výsledku anglicky
The response of 3C-SiC to hydrostatic pressure and to several uni- and bi-axial stress conditions is thoroughly investigated using first principles calculations. A topological interpretation of the chemical bonding reveals that the so-called non-covalent interactions enhance only at high pressure while the nature of the covalent Si-C bonding network keeps essentially with the same pattern. The calculated low compressibility agrees well with experimental values and is in concordance with the high structural stability of this polymorph under hydrostatic pressure. Under uniaxial [001] stress, the c/a ratio shows a noticeable drop inducing a closure of the band gap and the emergence of a metallic state around 40 GPa. This behavior correlates with a plateau of the electron localization function exhibiting a roughly constant and non-negligible value surrounding CSi4 and SiC4 covalent bonded units.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
CF - Fyzikální chemie a teoretická chemie
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2016
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Physical Chemistry Chemical Physics
ISSN
1463-9076
e-ISSN
—
Svazek periodika
18
Číslo periodika v rámci svazku
11
Stát vydavatele periodika
GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska
Počet stran výsledku
8
Strana od-do
8132-8139
Kód UT WoS článku
000372229700059
EID výsledku v databázi Scopus
—