XRD study of thickness dependence of crystallization and stresses in TiO2 thin films

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F09%3A00207040" target="_blank" >RIV/00216208:11320/09:00207040 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
XRD study of thickness dependence of crystallization and stresses in TiO2 thin films
Popis výsledku v původním jazyce
In this work a complex X-ray diffraction (XRD) study of thin TiO2 films on Si substrates with different thicknesses (50-2000 nm) prepared by magnetron sputtering is presented. Crystallisation process of amorphous films was studied in-situ. XRD reflectivity, texture and stress measurements were performed ex-situ. Other amorphous and nanocrystalline powders were also measured for comparison.
Název v anglickém jazyce
XRD study of thickness dependence of crystallization and stresses in TiO2 thin films
Popis výsledku anglicky
In this work a complex X-ray diffraction (XRD) study of thin TiO2 films on Si substrates with different thicknesses (50-2000 nm) prepared by magnetron sputtering is presented. Crystallisation process of amorphous films was studied in-situ. XRD reflectivity, texture and stress measurements were performed ex-situ. Other amorphous and nanocrystalline powders were also measured for comparison.

Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—

Rok uplatnění
2009
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika
Materials Structure in Chemistry. Biology. Physics and Technology
ISSN
1211-5894
e-ISSN
—
Svazek periodika
16
Číslo periodika v rámci svazku
2a
Stát vydavatele periodika
CZ - Česká republika
Počet stran výsledku
2
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—

Podobné výsledky(10)