Growth of thin epitaxial alumina films onto Ni(111): an electron spectroscopy and diffraction study

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F10%3A10071368" target="_blank" >RIV/00216208:11320/10:10071368 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Growth of thin epitaxial alumina films onto Ni(111): an electron spectroscopy and diffraction study

Popis výsledku v původním jazyce

An epitaxial ultra-thin alumina layer was prepared on Ni(111) by simultaneous Al deposition and oxidation at elevated temperatures. Different deposition procedures lead to creation of oxide layers of various thicknesses and quality. Low-energy electron diffraction revealed epitaxial parameters of the films and the relationship between the nickel substrate and the oxide overlayer. Core-level photoelectron spectroscopy using Al-K-alpha and synchrotron-generated photons show that the oxide-metal interfaceis formed by oxygen atoms, which is contrary to the case of epitaxial alumina layers prepared by the oxidation of NiAl(110) and Ni3Al(111) surfaces. The results of a photoelectric work function measurement are also discussed.

Název v anglickém jazyce

Growth of thin epitaxial alumina films onto Ni(111): an electron spectroscopy and diffraction study

Popis výsledku anglicky

An epitaxial ultra-thin alumina layer was prepared on Ni(111) by simultaneous Al deposition and oxidation at elevated temperatures. Different deposition procedures lead to creation of oxide layers of various thicknesses and quality. Low-energy electron diffraction revealed epitaxial parameters of the films and the relationship between the nickel substrate and the oxide overlayer. Core-level photoelectron spectroscopy using Al-K-alpha and synchrotron-generated photons show that the oxide-metal interfaceis formed by oxygen atoms, which is contrary to the case of epitaxial alumina layers prepared by the oxidation of NiAl(110) and Ni3Al(111) surfaces. The results of a photoelectric work function measurement are also discussed.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

—

Návaznosti

Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2010

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Interface Analysis

ISSN

0142-2421

e-ISSN

—

Svazek periodika

42

Číslo periodika v rámci svazku

10-11

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

—

Kód UT WoS článku

000282668800016

EID výsledku v databázi Scopus

—