Ti/TiO2 Thin Films Deposition by Means of Hollow Cathode Plasma Jet
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F12%3A10133144" target="_blank" >RIV/00216208:11320/12:10133144 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/proc/pdf12/WDS12_206_f2_Perekrestov.pdf" target="_blank" >http://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/proc/pdf12/WDS12_206_f2_Perekrestov.pdf</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Ti/TiO2 Thin Films Deposition by Means of Hollow Cathode Plasma Jet
Popis výsledku v původním jazyce
Hollow cathode plasma jet (HCPJ) sputtering technique, history and comparisons with another plasma sources are reviewed in this article. Properties, characteristics and deposition features of the Ti and TixOy films are considered. The approach of quartzcrystal microbalance (QCM) usage and calibration is shown. First results of Ti/TiO2 thin films deposited on Si substrate are presented in the end.
Název v anglickém jazyce
Ti/TiO2 Thin Films Deposition by Means of Hollow Cathode Plasma Jet
Popis výsledku anglicky
Hollow cathode plasma jet (HCPJ) sputtering technique, history and comparisons with another plasma sources are reviewed in this article. Properties, characteristics and deposition features of the Ti and TixOy films are considered. The approach of quartzcrystal microbalance (QCM) usage and calibration is shown. First results of Ti/TiO2 thin films deposited on Si substrate are presented in the end.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2012
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
WDS'12 Proceedings of Contributed Papers: Part II - Physics of Plasmas and Ionized Media
ISBN
978-80-7378-225-2
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
38-43
Název nakladatele
Matfyzpress
Místo vydání
Praha
Místo konání akce
Praha
Datum konání akce
29. 5. 2012
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—