Photoemission study of cerium silicate model systems

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F13%3A10192071" target="_blank" >RIV/00216208:11320/13:10192071 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2012.11.126" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2012.11.126</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2012.11.126" target="_blank" >10.1016/j.apsusc.2012.11.126</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Photoemission study of cerium silicate model systems

Popis výsledku v původním jazyce

Interaction of silicon with cerium oxide was studied by photoelectron spectroscopy using two model systems CeOx/Si(1 1 1) and Si/CeO2(1 1 1)/Cu(1 1 1) which can be used for fundamental studies in the field of microelectronics and heterogeneous catalysis.The interaction was found to be strong and lead to a formation of cerium silicate films of the proposed stoichiometry Ce4.67Si3O13. Their maximum thickness was limited by diffusion of silicon. Beside silicate other compounds were growing on the surface- SiO2, Si2O, Si, and CeO2. The assignment of the formed species is based on the interpretation of photoemission spectra involving the measurements of various reference O/Si and Si-O/Cu systems.

Název v anglickém jazyce

Photoemission study of cerium silicate model systems

Popis výsledku anglicky

Interaction of silicon with cerium oxide was studied by photoelectron spectroscopy using two model systems CeOx/Si(1 1 1) and Si/CeO2(1 1 1)/Cu(1 1 1) which can be used for fundamental studies in the field of microelectronics and heterogeneous catalysis.The interaction was found to be strong and lead to a formation of cerium silicate films of the proposed stoichiometry Ce4.67Si3O13. Their maximum thickness was limited by diffusion of silicon. Beside silicate other compounds were growing on the surface- SiO2, Si2O, Si, and CeO2. The assignment of the formed species is based on the interpretation of photoemission spectra involving the measurements of various reference O/Si and Si-O/Cu systems.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace

Rok uplatnění

2013

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Applied Surface Science

ISSN

0169-4332

e-ISSN

—

Svazek periodika

265

Číslo periodika v rámci svazku

leden

Stát vydavatele periodika

NL - Nizozemsko

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

817-822

Kód UT WoS článku

000312958500126

EID výsledku v databázi Scopus

—