A Study of Sheath in Argon Plasma Containing Sputtered Metal
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F13%3A10192277" target="_blank" >RIV/00216208:11320/13:10192277 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/proc/pdf13/WDS13_208_f2_Ibehej.pdf" target="_blank" >http://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/proc/pdf13/WDS13_208_f2_Ibehej.pdf</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
A Study of Sheath in Argon Plasma Containing Sputtered Metal
Popis výsledku v původním jazyce
We present results of a two-dimensional particle model of plasma-solid boundary. The model follows trajectories of charged species in plasma which form sheath and pre-sheath layers in the vicinity of a biased substrate. We studied sheath parameters and particle transport through the sheath in high-density argon plasma containing sputtered metal ions. The plasma parameters were taken from a volume-averaged model of inductively coupled plasma during ionized physical vapour deposition (IPVD) using magnetron sputtering. Our model simulated the capability of IPVD to ll the high-aspect-ratio trenches and evaluated local fluxes, energy and angular distributions of ions impinging on the trench. We observed that the substrate bias influenced the energy of ionsbut not their flux. Therefore, these quantities can be regulated independently by changing bias and magnetron power.
Název v anglickém jazyce
A Study of Sheath in Argon Plasma Containing Sputtered Metal
Popis výsledku anglicky
We present results of a two-dimensional particle model of plasma-solid boundary. The model follows trajectories of charged species in plasma which form sheath and pre-sheath layers in the vicinity of a biased substrate. We studied sheath parameters and particle transport through the sheath in high-density argon plasma containing sputtered metal ions. The plasma parameters were taken from a volume-averaged model of inductively coupled plasma during ionized physical vapour deposition (IPVD) using magnetron sputtering. Our model simulated the capability of IPVD to ll the high-aspect-ratio trenches and evaluated local fluxes, energy and angular distributions of ions impinging on the trench. We observed that the substrate bias influenced the energy of ionsbut not their flux. Therefore, these quantities can be regulated independently by changing bias and magnetron power.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GAP205%2F10%2F0979" target="_blank" >GAP205/10/0979: Studium interakce chemicky aktivního plazmatu s povrchy pevných látek při středních a vyšších tlacích</a><br>
Návaznosti
S - Specificky vyzkum na vysokych skolach
Ostatní
Rok uplatnění
2013
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
WDS'13 Proceedings of Contributed Papers: Part II - Physics of Plasmas and Ionized Media
ISBN
978-80-7378-251-1
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
54-59
Název nakladatele
Matfyzpress
Místo vydání
Praha
Místo konání akce
Praha
Datum konání akce
4. 6. 2013
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—