Deposition of TiO2 Nanoparticles by Means of Hollow Cathode Plasma Jet

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F13%3A10192448" target="_blank" >RIV/00216208:11320/13:10192448 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/proc/pdf13/WDS13_222_f2_Perekrestov.pdf" target="_blank" >http://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/proc/pdf13/WDS13_222_f2_Perekrestov.pdf</a>

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Deposition of TiO2 Nanoparticles by Means of Hollow Cathode Plasma Jet

Popis výsledku v původním jazyce

TiO2 nanoparticles have been investigated in this work. Nanoparticles were obtained in Ar plasma on monocrystaline Si(111) substrate by gas-phase deposition using hollow cathode plasma jet (HCPJ). The material of a cathode is pure titanium. Cathode's surface has a high affinity for oxygen and thus an oxide layer rapidly forms upon exposure to the atmosphere or introducing oxygen into the main chamber. Given method is based on sputtering TiO2/Ti2O3/TiO layer of a hollow cathode. The explanation of nanoparticle growth mechanism and size distribution is given. Morphology of thin film surface was investigated by means of scanning electron microscope (SEM) and atomic force microscope (AFM). We used mass spectrometer to monitor a chemical composition of thegas inside the system during deposition. The chemical composition of the thin films was investigated by means of energy dispersive x-ray analysis (EDX).

Název v anglickém jazyce

Deposition of TiO2 Nanoparticles by Means of Hollow Cathode Plasma Jet

Popis výsledku anglicky

TiO2 nanoparticles have been investigated in this work. Nanoparticles were obtained in Ar plasma on monocrystaline Si(111) substrate by gas-phase deposition using hollow cathode plasma jet (HCPJ). The material of a cathode is pure titanium. Cathode's surface has a high affinity for oxygen and thus an oxide layer rapidly forms upon exposure to the atmosphere or introducing oxygen into the main chamber. Given method is based on sputtering TiO2/Ti2O3/TiO layer of a hollow cathode. The explanation of nanoparticle growth mechanism and size distribution is given. Morphology of thin film surface was investigated by means of scanning electron microscope (SEM) and atomic force microscope (AFM). We used mass spectrometer to monitor a chemical composition of thegas inside the system during deposition. The chemical composition of the thin films was investigated by means of energy dispersive x-ray analysis (EDX).

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GAP205%2F11%2F0386" target="_blank" >GAP205/11/0386: Pokročilý experimentální výzkum výbojových zdrojů plazmatu použitých pro přípravu nanostrukturovaných tenkých vrstev</a><br>

Návaznosti

S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Rok uplatnění

2013

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

WDS'13 Proceedings of Contributed Papers: Part II - Physics of Plasmas and Ionized Media

ISBN

978-80-7378-251-1

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

5

Strana od-do

139-143

Název nakladatele

Matfyzpress

Místo vydání

Praha

Místo konání akce

Praha

Datum konání akce

4. 6. 2013

Typ akce podle státní příslušnosti

EUR - Evropská akce

Kód UT WoS článku

—