Analytical Evaluation of Plasma Parameters by Optical Emission Spectroscopy in Low-Pressure Hollow Cathode Plasma Jet and Planar Magnetron System by DC and Pulsed DC Excitation Sourc
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216208%3A11320%2F21%3A10440101" target="_blank" >RIV/00216208:11320/21:10440101 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="https://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/proc/pdf21/WDS21_16_f2_Mishra.pdf" target="_blank" >https://www.mff.cuni.cz/veda/konference/wds/proc/pdf21/WDS21_16_f2_Mishra.pdf</a>
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Analytical Evaluation of Plasma Parameters by Optical Emission Spectroscopy in Low-Pressure Hollow Cathode Plasma Jet and Planar Magnetron System by DC and Pulsed DC Excitation Sourc
Popis výsledku v původním jazyce
Optical emission spectroscopy (OES) unified with the models of plasma light emission becomes a non-intrusive and versatile method for plasma parameters determination. Each spectral line in emission spectroscopy corresponds to an optical transition between two quantum levels of atom/molecule. The number density of gas species in the upper state determines the spectral line intensity. The spectral line intensities regulate densities of species in various states. With the utilization of the modified Boltzmann equation and line intensity ratios, one can calculate the electron temperature (Te) and electron density (ne). The analytical evaluation of plasma parameters in the low-pressure regime for hollow cathode plasma jet (HC) and planar magnetron system (PMS) in presence of DC and pulsed-DC excitation source was performed successfully. The effect of various processing parameters like power, working pressure on plasma parameters have been investigated in presence of argon (Ar) gas atmosphere.
Název v anglickém jazyce
Analytical Evaluation of Plasma Parameters by Optical Emission Spectroscopy in Low-Pressure Hollow Cathode Plasma Jet and Planar Magnetron System by DC and Pulsed DC Excitation Sourc
Popis výsledku anglicky
Optical emission spectroscopy (OES) unified with the models of plasma light emission becomes a non-intrusive and versatile method for plasma parameters determination. Each spectral line in emission spectroscopy corresponds to an optical transition between two quantum levels of atom/molecule. The number density of gas species in the upper state determines the spectral line intensity. The spectral line intensities regulate densities of species in various states. With the utilization of the modified Boltzmann equation and line intensity ratios, one can calculate the electron temperature (Te) and electron density (ne). The analytical evaluation of plasma parameters in the low-pressure regime for hollow cathode plasma jet (HC) and planar magnetron system (PMS) in presence of DC and pulsed-DC excitation source was performed successfully. The effect of various processing parameters like power, working pressure on plasma parameters have been investigated in presence of argon (Ar) gas atmosphere.
Klasifikace
Druh
D - Stať ve sborníku
CEP obor
—
OECD FORD obor
10305 - Fluids and plasma physics (including surface physics)
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
S - Specificky vyzkum na vysokych skolach<br>I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2021
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název statě ve sborníku
WDS'21 Proceedings of Contributed Papers — Physics
ISBN
978-80-7378-455-3
ISSN
—
e-ISSN
—
Počet stran výsledku
8
Strana od-do
112-119
Název nakladatele
Matfyzpress
Místo vydání
Praha
Místo konání akce
Praha/ZOOM
Datum konání akce
15. 6. 2021
Typ akce podle státní příslušnosti
EUR - Evropská akce
Kód UT WoS článku
—