Plasma Enhanced CVD of DLC:Si(O) Films from Methane/Hexamethyldisiloxane Feeds

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F01%3A00004510" target="_blank" >RIV/00216224:14310/01:00004510 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Plasma Enhanced CVD of DLC:Si(O) Films from Methane/Hexamethyldisiloxane Feeds

Popis výsledku v původním jazyce

Low pressure deposition of hard carbon films with addition of silicon and oxide was carried out in the mixture of methane and hexamethyldisiloxane (HMDSO). Film properties like deposition rate, hardness and optical constants depended strongly on tbe HMDSO to methane ratio. Moreover, the self bias voltage at the powered electrode, on which the substrates were placed, depended on this ratio too. Therefore, the plasma parameters were studied by OES and capacitavely coupled planar ion flux probe. It was found, that the temperatures as well as positive ion current density depended on the HMDSO to methane flow rate ratio but not on the self bias voltage that was independently changed with an external dc voltage supply.

Název v anglickém jazyce

Plasma Enhanced CVD of DLC:Si(O) Films from Methane/Hexamethyldisiloxane Feeds

Popis výsledku anglicky

Low pressure deposition of hard carbon films with addition of silicon and oxide was carried out in the mixture of methane and hexamethyldisiloxane (HMDSO). Film properties like deposition rate, hardness and optical constants depended strongly on tbe HMDSO to methane ratio. Moreover, the self bias voltage at the powered electrode, on which the substrates were placed, depended on this ratio too. Therefore, the plasma parameters were studied by OES and capacitavely coupled planar ion flux probe. It was found, that the temperatures as well as positive ion current density depended on the HMDSO to methane flow rate ratio but not on the self bias voltage that was independently changed with an external dc voltage supply.

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2001

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Proceedings of 15th International Symposium on Plasma Chemistry

ISBN

—

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

6

Strana od-do

133

Název nakladatele

GREMI, CNRS/University of Orleans

Místo vydání

Orleans (France)

Místo konání akce

Orleans (France)

Datum konání akce

1. 1. 2001

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—