Characterization of the boundaries of thin films of TiO2 by atomic force microscopy and optical methods

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F02%3A00007050" target="_blank" >RIV/00216224:14310/02:00007050 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Characterization of the boundaries of thin films of TiO2 by atomic force microscopy and optical methods

Popis výsledku v původním jazyce

In this paper slight roughness of the upper boundaries of TiO2 thin films prepared on substrates formed by single-crystal silicon is studied. Atomic force microscopy (AFM) and an optical method based on combining variable-angle spectroscopic ellipsometryand near-normal spectroscopic reflectometry are used for this purpose. It is shown that the values of the basic statistical quantities characterizing this roughness depend quite strongly on the values of the thicknesses of these films (they increase with increasing thickness). Differences observed between the values of the basic statistical parameters determined by AFM and the optical method are explained. It is also shown that the TiO2 films exhibit an inhomogeneity represented by a profile of the complex refractive index.

Název v anglickém jazyce

Characterization of the boundaries of thin films of TiO2 by atomic force microscopy and optical methods

Popis výsledku anglicky

In this paper slight roughness of the upper boundaries of TiO2 thin films prepared on substrates formed by single-crystal silicon is studied. Atomic force microscopy (AFM) and an optical method based on combining variable-angle spectroscopic ellipsometryand near-normal spectroscopic reflectometry are used for this purpose. It is shown that the values of the basic statistical quantities characterizing this roughness depend quite strongly on the values of the thicknesses of these films (they increase with increasing thickness). Differences observed between the values of the basic statistical parameters determined by AFM and the optical method are explained. It is also shown that the TiO2 films exhibit an inhomogeneity represented by a profile of the complex refractive index.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/GA101%2F01%2F1104" target="_blank" >GA101/01/1104: Realizace laboratorního vzoru zařízení pro měření drsnosti povrchu metodou holografické interferometrie</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2002

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface and Interface Analysis

ISSN

0142-2421

e-ISSN

—

Svazek periodika

34

Číslo periodika v rámci svazku

1

Stát vydavatele periodika

US - Spojené státy americké

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

759-762

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—