Preionizovany pulzni magnetronovy vyboj pro IPVD
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F05%3A00012906" target="_blank" >RIV/00216224:14310/05:00012906 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Preionised pulsed magnetron discharges for ionised physical vapour deposition
Popis výsledku v původním jazyce
To improve the quality of thin film deposition by magnetron discharges, particularly by an effective ionisation of the sputtered vapour, we developed a new ionised physical vapour deposition (IPVD) method based on preionised Pulsed magnetron discharges.By superposition of continuous, microwave or RF discharge, with a fast pulsed abnormal discharge, target current density is extended to very high values during short pulses. Efficient vapour ionisation is obtained and due to the current pulse shortness,electric arc development is avoided.
Název v anglickém jazyce
Preionised pulsed magnetron discharges for ionised physical vapour deposition
Popis výsledku anglicky
To improve the quality of thin film deposition by magnetron discharges, particularly by an effective ionisation of the sputtered vapour, we developed a new ionised physical vapour deposition (IPVD) method based on preionised Pulsed magnetron discharges.By superposition of continuous, microwave or RF discharge, with a fast pulsed abnormal discharge, target current density is extended to very high values during short pulses. Efficient vapour ionisation is obtained and due to the current pulse shortness,electric arc development is avoided.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GD202%2F03%2FH162" target="_blank" >GD202/03/H162: Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2005
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Journal of Optoelectronics and Advanced Materials
ISSN
1454-4164
e-ISSN
—
Svazek periodika
7
Číslo periodika v rámci svazku
5
Stát vydavatele periodika
RO - Rumunsko
Počet stran výsledku
3
Strana od-do
2481
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—