Měření nanodrsnosti pomocí optických metod a mikroskopie atomové síly

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F05%3A00013550" target="_blank" >RIV/00216224:14310/05:00013550 - isvavai.cz</a>

Nalezeny alternativní kódy

RIV/48399108:_____/05:#0000008

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

čeština

Název v původním jazyce

Měření nanodrsnosti pomocí optických metod a mikroskopie atomové síly

Popis výsledku v původním jazyce

V tomto příspěvku je podán přehled statistických veličin charakterizujících náhodně drsné povrchy, které jsou významné z hlediska praxe. Dále jsou popsány způsoby měření těchto veličin pomocí mikroskopie atomové síly a optické metody založené na kombinaci spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie. Tyto způsoby jsou ilustrovány prostřednictvím výsledků dosažených u náhodně drsných povrchů monokrystalu křemíku a u drsných horních rozhraních tenkých vrstev TiO2. Obdržené výsledky u oboudruhů náhodně drsných povrchů pomocí kombinované optické metody a mikroskopie atomové síly jsou vzájemně srovnány. Je také provedena diskuse chyb, které mohou ovlivnit hodnoty statistických veličin určených pomocí mikroskopie atomové síly. V tomto příspěvku navíc ukážeme, že pomocí obou výše zmíněných experimentálních technik je možné provést i kvantitativní charakterizaci náhodně drsných povrchů vykazujících nanometrický charakter, tj. povrchů jejichž výškové nerovnosti jsou popsány st

Název v anglickém jazyce

Measurement of nanoroughness using optical methods and atomic force microscopy

Popis výsledku anglicky

In this contribution a review of statistical quantities characterizing randomly rough surfaces that are important from the point of view of practice is presented. Furthermore, methods of measuring these quantities by means of atomic force microscopy andoptical method based on combination of spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry are described. These methods are illustrated through the results achieved for randomly rough surfaces of silicon single crystal and rough upper boundaries of thin films of TiO2. The results obtained for both the rough surfaces using the combined optical method and atomic force microscopy are mutually compared. A discussion of errors influencing the values of the statistical quantities determined by atomic force microscopy is also carried out. In this contribution we will moreover show that by means of both the mentioned experimental techniques one can even perform a quantitative analysis of the randomly rough surfaces exhibiting nanometric

Druh

D - Stať ve sborníku

CEP obor

BM - Fyzika pevných látek a magnetismus

OECD FORD obor

—

Projekt

<a href="/cs/project/FT-TA%2F094" target="_blank" >FT-TA/094: *Vývoj metod pro charakterizaci defektů na površích pevných látek.</a><br>

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2005

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název statě ve sborníku

Kvalita a GPS 2005

ISBN

80-214-3033-8

ISSN

—

e-ISSN

—

Počet stran výsledku

9

Strana od-do

131-139

Název nakladatele

Subkomise metrologie při TNK 7

Místo vydání

Brno

Místo konání akce

Brno, Czech Republic

Datum konání akce

20. 9. 2005

Typ akce podle státní příslušnosti

WRD - Celosvětová akce

Kód UT WoS článku

—