Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Studium mechanických vlastností NCD vrstev

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F07%3A00020900" target="_blank" >RIV/00216224:14310/07:00020900 - isvavai.cz</a>

  • Nalezeny alternativní kódy

    RIV/49777513:23210/07:00000069

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Study of Mechanical Properties of NCD Coatings

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The aim of the present paper was to deposit nanocrystalline diamond (NCD) films with low surface roughness, high hardness and fracture toughness by microwave PECVD in the ASTEX type reactor from mixture of methane and hydrogen. The diamond nucleation process was enhanced by RF induced dc self bias of minus 125 V. The interfacial fracture toughness substantially depended on the process of RF induced dc self-bias application. In case of samples when the RF induced dc self-bias was applied after the introduction of methane into the deposition mixture the interfacial fracture toughness was substantially higher becauseof creation of amorphous carbon intermediate layer between the silicon substrate and the nanocrystalline film.

  • Název v anglickém jazyce

    Study of Mechanical Properties of NCD Coatings

  • Popis výsledku anglicky

    The aim of the present paper was to deposit nanocrystalline diamond (NCD) films with low surface roughness, high hardness and fracture toughness by microwave PECVD in the ASTEX type reactor from mixture of methane and hydrogen. The diamond nucleation process was enhanced by RF induced dc self bias of minus 125 V. The interfacial fracture toughness substantially depended on the process of RF induced dc self-bias application. In case of samples when the RF induced dc self-bias was applied after the introduction of methane into the deposition mixture the interfacial fracture toughness was substantially higher becauseof creation of amorphous carbon intermediate layer between the silicon substrate and the nanocrystalline film.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2007

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    VI. ročník konferencie Vrstvy a povlaky 2007

  • ISBN

    978-80-969310-4-0

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    4

  • Strana od-do

    1-4

  • Název nakladatele

    Liss a.s.

  • Místo vydání

    Rožnov pod Radhoštěm

  • Místo konání akce

    Soláň, Rožnov pod Radhoštěm

  • Datum konání akce

    1. 1. 2007

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    EUR - Evropská akce

  • Kód UT WoS článku