Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Measurement of plasma potential waveform by an uncompensated probe

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F10%3A00043616" target="_blank" >RIV/00216224:14310/10:00043616 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Measurement of plasma potential waveform by an uncompensated probe

  • Popis výsledku v původním jazyce

    A method is presented that enables measurement of plasma potential waveforms. The method consists of measurement by an uncompensated probe and analysis of the measured waveforms by means of a model of the sheath around the probe. The method was successfully tested in nitrogen capacitively coupled discharge. Strong influence of the sheath around the probe on the probe voltage and correlation between the probe current waveform and the discharge current are shown. At low pressure, the plasma potential waveform contains high amount of higher harmonic frequencies whose amplitudes are comparable with the amplitude of the fundamental frequency.

  • Název v anglickém jazyce

    Measurement of plasma potential waveform by an uncompensated probe

  • Popis výsledku anglicky

    A method is presented that enables measurement of plasma potential waveforms. The method consists of measurement by an uncompensated probe and analysis of the measured waveforms by means of a model of the sheath around the probe. The method was successfully tested in nitrogen capacitively coupled discharge. Strong influence of the sheath around the probe on the probe voltage and correlation between the probe current waveform and the discharge current are shown. At low pressure, the plasma potential waveform contains high amount of higher harmonic frequencies whose amplitudes are comparable with the amplitude of the fundamental frequency.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2010

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Plasma Sources Sci. Technol.

  • ISSN

    0963-0252

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    19

  • Číslo periodika v rámci svazku

    2

  • Stát vydavatele periodika

    GB - Spojené království Velké Británie a Severního Irska

  • Počet stran výsledku

    6

  • Strana od-do

  • Kód UT WoS článku

    000275921200014

  • EID výsledku v databázi Scopus