Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Behaviour of Hybrid PVD-PECVD Process in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F10%3A00045023" target="_blank" >RIV/00216224:14310/10:00045023 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Behaviour of Hybrid PVD-PECVD Process in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering

  • Popis výsledku v původním jazyce

    Hybrid PVD-PECVD sputtering process was studied in comparison with conventional reactive magnetron sputtering. Titanium target was sputtered in argon plus oxygen atmosphere for conventional reactive sputtering and in argon plus acetylene for hybrid process. The hybrid PVD-PECVD combines aspects of both processes: conventional sputtering of metal target but source of carbon was hydrocarbon vapour. We report differences in behaviour of these two processes, discuss necessary time for hybrid process to achieve steady state conditions and suggest modification of Berg's model for reactive magnetron sputtering to predict behaviour of hybrid process.

  • Název v anglickém jazyce

    Behaviour of Hybrid PVD-PECVD Process in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering

  • Popis výsledku anglicky

    Hybrid PVD-PECVD sputtering process was studied in comparison with conventional reactive magnetron sputtering. Titanium target was sputtered in argon plus oxygen atmosphere for conventional reactive sputtering and in argon plus acetylene for hybrid process. The hybrid PVD-PECVD combines aspects of both processes: conventional sputtering of metal target but source of carbon was hydrocarbon vapour. We report differences in behaviour of these two processes, discuss necessary time for hybrid process to achieve steady state conditions and suggest modification of Berg's model for reactive magnetron sputtering to predict behaviour of hybrid process.

Klasifikace

  • Druh

    D - Stať ve sborníku

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2010

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název statě ve sborníku

    7th ICRP & 63rd GEC - CONFERENCE PROCEEDINGS

  • ISBN

    978-4-86348-101-5

  • ISSN

  • e-ISSN

  • Počet stran výsledku

    2

  • Strana od-do

  • Název nakladatele

    Japan Society of Applied Physics

  • Místo vydání

    Japonsko

  • Místo konání akce

    Paris (France)

  • Datum konání akce

    4. 10. 2010

  • Typ akce podle státní příslušnosti

    WRD - Celosvětová akce

  • Kód UT WoS článku