Study of hybrid PVD?PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F11%3A00049862" target="_blank" >RIV/00216224:14310/11:00049862 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

—

DOI - Digital Object Identifier

—

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Study of hybrid PVD?PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene

Popis výsledku v původním jazyce

Hybrid PVD?PECVD process of target sputtering in hydrocarbon containing atmosphere combines aspects of both conventional reactive magnetron sputtering (PVD) and plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD). Such process is being typically used fordeposition of metal carbides embedded in hydrogenated carbon matrix. Compared to the conventional co-sputtering of metal and carbon targets, in the hybrid deposition process the source of the carbon is dissociated hydrocarbon vapour in plasma. The aim ofthis paper is to study the extent of similarities or differences between this hybrid process and the conventional reactive magnetron sputtering. We have chosen the sputtering of titanium target in acetylene containing atmosphere as a representative of the hybrid processes. We focused on experimental measurements of the hybrid PVD?PECVD process behaviour, the time necessary for the process to achieve steady-state conditions and basic modelling of the process.

Název v anglickém jazyce

Study of hybrid PVD?PECVD process of Ti sputtering in argon and acetylene

Popis výsledku anglicky

Hybrid PVD?PECVD process of target sputtering in hydrocarbon containing atmosphere combines aspects of both conventional reactive magnetron sputtering (PVD) and plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD). Such process is being typically used fordeposition of metal carbides embedded in hydrogenated carbon matrix. Compared to the conventional co-sputtering of metal and carbon targets, in the hybrid deposition process the source of the carbon is dissociated hydrocarbon vapour in plasma. The aim ofthis paper is to study the extent of similarities or differences between this hybrid process and the conventional reactive magnetron sputtering. We have chosen the sputtering of titanium target in acetylene containing atmosphere as a representative of the hybrid processes. We focused on experimental measurements of the hybrid PVD?PECVD process behaviour, the time necessary for the process to achieve steady-state conditions and basic modelling of the process.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění

2011

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

Surface & Coatings Technology

ISSN

0257-8972

e-ISSN

—

Svazek periodika

205

Číslo periodika v rámci svazku

—

Stát vydavatele periodika

DE - Spolková republika Německo

Počet stran výsledku

4

Strana od-do

"S299"-"S302"

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—