Effect of Nitrogen Incorporation on Optical Properties of DLC Layers

Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F10%3A00047539" target="_blank" >RIV/00216224:14310/10:00047539 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—

Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Effect of Nitrogen Incorporation on Optical Properties of DLC Layers
Popis výsledku v původním jazyce
Diamond-like carbon (amorphous hydrogenated carbon: a-C:H) films doped with different amount of nitrogen were deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) using capacitively coupled rf discharge 13.56 in the mixture of CH4/H2/N2 on silicon substrates. Nitrogen content allowed reduction of the inherent internal stress of the DLC layer. DC self-bias, time and gas feed composition parameters were used for modification of the optical properties, adhesion to substrates, chemical compositionand structure of the deposited films.
Název v anglickém jazyce
Effect of Nitrogen Incorporation on Optical Properties of DLC Layers
Popis výsledku anglicky
Diamond-like carbon (amorphous hydrogenated carbon: a-C:H) films doped with different amount of nitrogen were deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) using capacitively coupled rf discharge 13.56 in the mixture of CH4/H2/N2 on silicon substrates. Nitrogen content allowed reduction of the inherent internal stress of the DLC layer. DC self-bias, time and gas feed composition parameters were used for modification of the optical properties, adhesion to substrates, chemical compositionand structure of the deposited films.

Projekt
<a href="/cs/project/GD104%2F09%2FH080" target="_blank" >GD104/09/H080: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace</a><br>
Návaznosti
Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)

Rok uplatnění
2010
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Podobné výsledky(10)