Higher harmonic frequencies in capacitive discharges and their using for monitoring of plasma processing
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F11%3A00050415" target="_blank" >RIV/00216224:14310/11:00050415 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Higher harmonic frequencies in capacitive discharges and their using for monitoring of plasma processing
Popis výsledku v původním jazyce
Waveforms of discharge voltage and current and their changes induced by changes of plasma parameters (namely during deposition processes) were studied.
Název v anglickém jazyce
Higher harmonic frequencies in capacitive discharges and their using for monitoring of plasma processing
Popis výsledku anglicky
Waveforms of discharge voltage and current and their changes induced by changes of plasma parameters (namely during deposition processes) were studied.
Klasifikace
Druh
O - Ostatní výsledky
CEP obor
BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GA202%2F07%2F1669" target="_blank" >GA202/07/1669: Depozice termomechanicky stabilních nanostrukturovaných diamantu-podobných tenkých vrstev ve dvojfrekvenčních kapacitních výbojích</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)
Ostatní
Rok uplatnění
2011
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů