Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

Complex analysis of SiOxCyHz films deposited by an atmospheric pressure dielectric barrier discharge

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F11%3A00052854" target="_blank" >RIV/00216224:14310/11:00052854 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.03.124" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.03.124</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

    <a href="http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.03.124" target="_blank" >10.1016/j.surfcoat.2011.03.124</a>

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    Complex analysis of SiOxCyHz films deposited by an atmospheric pressure dielectric barrier discharge

  • Popis výsledku v původním jazyce

    SiOx films are deposited with an atmospheric pressure dielectric barrier discharge (apDBD) using Ar, O2 and different precursor gases (HMDSO and Silane).An experimental study on the influence of the discharge operation parameters on the chemical composition of the deposited films and the vertical structure over the film thickness is carried out by means of SEM, EDX, and ATR?FTIR.

  • Název v anglickém jazyce

    Complex analysis of SiOxCyHz films deposited by an atmospheric pressure dielectric barrier discharge

  • Popis výsledku anglicky

    SiOx films are deposited with an atmospheric pressure dielectric barrier discharge (apDBD) using Ar, O2 and different precursor gases (HMDSO and Silane).An experimental study on the influence of the discharge operation parameters on the chemical composition of the deposited films and the vertical structure over the film thickness is carried out by means of SEM, EDX, and ATR?FTIR.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

  • Návaznosti

    Z - Vyzkumny zamer (s odkazem do CEZ)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2011

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Surface & Coatings Technology

  • ISSN

    0257-8972

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    205

  • Číslo periodika v rámci svazku

    257

  • Stát vydavatele periodika

    CH - Švýcarská konfederace

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    "S330"-"S334"

  • Kód UT WoS článku

    000293258600071

  • EID výsledku v databázi Scopus