Laser deposition of CN x films combined with RF and hollow cathode discharges.
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F68378271%3A_____%2F99%3A02000063" target="_blank" >RIV/68378271:_____/99:02000063 - isvavai.cz</a>
Nalezeny alternativní kódy
RIV/68378271:_____/99:02010121
Výsledek na webu
—
DOI - Digital Object Identifier
—
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Laser deposition of CN x films combined with RF and hollow cathode discharges.
Popis výsledku v původním jazyce
Pulsed laser deposition combined with additional RF and hollow cathod discharges for deposition of CNx films are studied. Films were characterized by WDX, XRD and by microhardness testers.
Název v anglickém jazyce
Laser deposition of CN x films combined with RF and hollow cathode discharges.
Popis výsledku anglicky
Pulsed laser deposition combined with additional RF and hollow cathod discharges for deposition of CNx films are studied. Films were characterized by WDX, XRD and by microhardness testers.
Klasifikace
Druh
J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)
CEP obor
BM - Fyzika pevných látek a magnetismus
OECD FORD obor
—
Návaznosti výsledku
Projekt
<a href="/cs/project/GA202%2F93%2F0464" target="_blank" >GA202/93/0464: Studium procesu laserové depozice tenkých vrstev</a><br>
Návaznosti
P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)
Ostatní
Rok uplatnění
1999
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
Superficies y Vacio
ISSN
—
e-ISSN
—
Svazek periodika
9
Číslo periodika v rámci svazku
N/A
Stát vydavatele periodika
MX - Spojené státy mexické
Počet stran výsledku
3
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
—
EID výsledku v databázi Scopus
—