Vše

Co hledáte?

Vše
Projekty
Výsledky výzkumu
Subjekty

Rychlé hledání

  • Projekty podpořené TA ČR
  • Významné projekty
  • Projekty s nejvyšší státní podporou
  • Aktuálně běžící projekty

Chytré vyhledávání

  • Takto najdu konkrétní +slovo
  • Takto z výsledků -slovo zcela vynechám
  • “Takto můžu najít celou frázi”

PROPERTIES OF MODIFIED AMORPHOUS CARBON THIN FILMS DEPOSITED BY PECVD

Identifikátory výsledku

  • Kód výsledku v IS VaVaI

    <a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F12%3A00057155" target="_blank" >RIV/00216224:14310/12:00057155 - isvavai.cz</a>

  • Výsledek na webu

    <a href="http://www.chemicke-listy.cz/common/content-issue_s5-volume_106-year_2012.html" target="_blank" >http://www.chemicke-listy.cz/common/content-issue_s5-volume_106-year_2012.html</a>

  • DOI - Digital Object Identifier

Alternativní jazyky

  • Jazyk výsledku

    angličtina

  • Název v původním jazyce

    PROPERTIES OF MODIFIED AMORPHOUS CARBON THIN FILMS DEPOSITED BY PECVD

  • Popis výsledku v původním jazyce

    The aim of this work was to prepare a set of DLC films from different mixtures of precursor gases (methane, hydrogen, deuterium, nitrogen and/or HMDSO) using RFPECVD on substrates such as crystalline silicon, glass, and steel. The prepared films were characterized by several diagnostic tools and the properties of hydrogenated amorphous carbon films and the modified diamond-like carbon thin films with different admixtures (N, Si, O, D) were compared. Mechanical tests were performed on the obtained filmsmainly using depth sensing indentation method. We focused our attention on the following coating properties: hardness, elastic modulus, fracture toughness, film-substrate adhesion. Additionally, the effect of the internal stress on the indentation response of the filmsubstrate systems was studied. The tribological properties of the films were also investigated. The surface free energy of the films was performed by contact angle measuring technique.

  • Název v anglickém jazyce

    PROPERTIES OF MODIFIED AMORPHOUS CARBON THIN FILMS DEPOSITED BY PECVD

  • Popis výsledku anglicky

    The aim of this work was to prepare a set of DLC films from different mixtures of precursor gases (methane, hydrogen, deuterium, nitrogen and/or HMDSO) using RFPECVD on substrates such as crystalline silicon, glass, and steel. The prepared films were characterized by several diagnostic tools and the properties of hydrogenated amorphous carbon films and the modified diamond-like carbon thin films with different admixtures (N, Si, O, D) were compared. Mechanical tests were performed on the obtained filmsmainly using depth sensing indentation method. We focused our attention on the following coating properties: hardness, elastic modulus, fracture toughness, film-substrate adhesion. Additionally, the effect of the internal stress on the indentation response of the filmsubstrate systems was studied. The tribological properties of the films were also investigated. The surface free energy of the films was performed by contact angle measuring technique.

Klasifikace

  • Druh

    J<sub>x</sub> - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

  • CEP obor

    BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

  • OECD FORD obor

Návaznosti výsledku

  • Projekt

    Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

  • Návaznosti

    P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)<br>S - Specificky vyzkum na vysokych skolach

Ostatní

  • Rok uplatnění

    2012

  • Kód důvěrnosti údajů

    S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Údaje specifické pro druh výsledku

  • Název periodika

    Chem. listy

  • ISSN

    0009-2770

  • e-ISSN

  • Svazek periodika

    106/2012

  • Číslo periodika v rámci svazku

    106

  • Stát vydavatele periodika

    CZ - Česká republika

  • Počet stran výsledku

    5

  • Strana od-do

    "S1499"-"S1503"

  • Kód UT WoS článku

  • EID výsledku v databázi Scopus