Nano-modification of Si-wafer surfaces using low-cost ambient air diffuse plasma

Kód výsledku v IS VaVaI

<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F15%3A00086982" target="_blank" >RIV/00216224:14310/15:00086982 - isvavai.cz</a>

Výsledek na webu

<a href="http://dx.doi.org/10.1504/IJNM.2015.075226" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1504/IJNM.2015.075226</a>

DOI - Digital Object Identifier

<a href="http://dx.doi.org/10.1504/IJNM.2015.075226" target="_blank" >10.1504/IJNM.2015.075226</a>

Jazyk výsledku

angličtina

Název v původním jazyce

Nano-modification of Si-wafer surfaces using low-cost ambient air diffuse plasma

Popis výsledku v původním jazyce

In this paper, we demonstrated the cleaning and nano-oxidation of Si-wafer surfaces by atmospheric pressure plasma, generated in ambient air using diffuse coplanar surface barrier discharge. Plasma treatment for one second resulted in a significant reduction of water contact angle. The increase in wettability was observed and explained by chemical changes on the analysed Si-wafer surfaces. These changes were analysed by X-ray photoelectron spectroscopy which showed a considerable decrease in the presence of carbon and a significant increase of oxygen on the analysed surfaces.

Název v anglickém jazyce

Nano-modification of Si-wafer surfaces using low-cost ambient air diffuse plasma

Popis výsledku anglicky

In this paper, we demonstrated the cleaning and nano-oxidation of Si-wafer surfaces by atmospheric pressure plasma, generated in ambient air using diffuse coplanar surface barrier discharge. Plasma treatment for one second resulted in a significant reduction of water contact angle. The increase in wettability was observed and explained by chemical changes on the analysed Si-wafer surfaces. These changes were analysed by X-ray photoelectron spectroscopy which showed a considerable decrease in the presence of carbon and a significant increase of oxygen on the analysed surfaces.

Druh

J_x - Nezařazeno - Článek v odborném periodiku (Jimp, Jsc a Jost)

CEP obor

BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech

OECD FORD obor

—

Projekt

Výsledek vznikl pri realizaci vícero projektů. Více informací v záložce Projekty.

Návaznosti

P - Projekt vyzkumu a vyvoje financovany z verejnych zdroju (s odkazem do CEP)

Rok uplatnění

2015

Kód důvěrnosti údajů

S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů

Název periodika

International Journal of Nanomanufacturing

ISSN

1746-9392

e-ISSN

—

Svazek periodika

11

Číslo periodika v rámci svazku

5/6

Stát vydavatele periodika

CH - Švýcarská konfederace

Počet stran výsledku

8

Strana od-do

237-244

Kód UT WoS článku

—

EID výsledku v databázi Scopus

—