Determination of the impact of Bi content on the valence band energy of GaAsBi using x-ray photoelectron spectroscopy
Identifikátory výsledku
Kód výsledku v IS VaVaI
<a href="https://www.isvavai.cz/riv?ss=detail&h=RIV%2F00216224%3A14310%2F17%3A00100440" target="_blank" >RIV/00216224:14310/17:00100440 - isvavai.cz</a>
Výsledek na webu
<a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.4986751" target="_blank" >http://dx.doi.org/10.1063/1.4986751</a>
DOI - Digital Object Identifier
<a href="http://dx.doi.org/10.1063/1.4986751" target="_blank" >10.1063/1.4986751</a>
Alternativní jazyky
Jazyk výsledku
angličtina
Název v původním jazyce
Determination of the impact of Bi content on the valence band energy of GaAsBi using x-ray photoelectron spectroscopy
Popis výsledku v původním jazyce
We investigate the change of the valence band energy of GaAs1-xBix as a function of dilute bismuth (Bi) concentration, x, using x-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The change in the valence band energy per addition of 1 % Bi is determined for strained and unstrained thin films using a linear approximation applicable to the dilute regime. Spectroscopic ellipsometry (SE) was used as a complementary technique to determine the change in GaAsBi bandgap resulting from Bi addition. Analysis of SE and XPS data together supports the conclusion that similar to 75% of the reduction in the bandgap is in the valence band for a compressively strained, dilute GaAsBi thin film at room temperature.
Název v anglickém jazyce
Determination of the impact of Bi content on the valence band energy of GaAsBi using x-ray photoelectron spectroscopy
Popis výsledku anglicky
We investigate the change of the valence band energy of GaAs1-xBix as a function of dilute bismuth (Bi) concentration, x, using x-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The change in the valence band energy per addition of 1 % Bi is determined for strained and unstrained thin films using a linear approximation applicable to the dilute regime. Spectroscopic ellipsometry (SE) was used as a complementary technique to determine the change in GaAsBi bandgap resulting from Bi addition. Analysis of SE and XPS data together supports the conclusion that similar to 75% of the reduction in the bandgap is in the valence band for a compressively strained, dilute GaAsBi thin film at room temperature.
Klasifikace
Druh
J<sub>imp</sub> - Článek v periodiku v databázi Web of Science
CEP obor
—
OECD FORD obor
21002 - Nano-processes (applications on nano-scale); (biomaterials to be 2.9)
Návaznosti výsledku
Projekt
—
Návaznosti
I - Institucionalni podpora na dlouhodoby koncepcni rozvoj vyzkumne organizace
Ostatní
Rok uplatnění
2017
Kód důvěrnosti údajů
S - Úplné a pravdivé údaje o projektu nepodléhají ochraně podle zvláštních právních předpisů
Údaje specifické pro druh výsledku
Název periodika
AIP Advances
ISSN
2158-3226
e-ISSN
—
Svazek periodika
7
Číslo periodika v rámci svazku
7
Stát vydavatele periodika
US - Spojené státy americké
Počet stran výsledku
6
Strana od-do
—
Kód UT WoS článku
000406760200016
EID výsledku v databázi Scopus
—